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論文

Organic solvent-free water-developable sugar resist material derived from biomass in green lithography

竹井 敏*; 大島 明博*; 市川 拓実*; 関口 敦士*; 柏倉 美紀*; 古澤 孝弘*; 田川 精一*; 大山 智子; 伊都 将司*; 宮坂 博*

Microelectronic Engineering, 122, p.70 - 76, 2014/06

 被引用回数:23 パーセンタイル:76.96(Engineering, Electrical & Electronic)

環境に配慮した電子線リソグラフィ技術を確立するため、バイオマス由来の糖レジストを開発した。石油由来ではなく、また、アルカリ水溶液や有機溶媒を用いて現像する既存のレジストと違い、水で現像できることが大きな特徴である。75keVの電子線描画装置を用いて加工特性を評価したところ、50-200nmのライン加工に要する照射線量は約7$$mu$$C/cm$$^2$$と低く、化学増幅型レジストと比較しても非常に高い感度を示すことが分かった。開発した糖レジストは23$$^{circ}$$Cの室温環境で純水に60秒浸漬することで現像でき、ドライエッチング耐性(CF$$_4$$ガス)も十分にあることが確認された。

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