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三宅 景子*; 安田 智成*; 加藤 正史*; 市村 正也*; 畑山 智亮*; 大島 武
Materials Science Forum, 778-780, p.503 - 506, 2014/02
Photolytic hydrogen generation using sunlight is regarded as energy production technology for the next generation. One of the key of issues for this technology is a selection of materials for the photolysis. Silicon carbide (SiC) is expected as one of the candidate materials for this application. In this study, we measured carrier lifetimes in SiC by the microwave photoconductivity decay (PCD) method. In order to control carrier lifetime in SiC, some samples were irradiated with 160 keV-electrons with fluences between 110 and 110 /cm. The values of carrier lifetime in SiC were compared to photocurrents in electrolytes which directly relate to the conversion efficiency of photolytic hydrogen generation. As a result, photocurrents depend on the sum of the depletion layer width and the diffusion length which was estimated from carrier lifetimes.
岡崎 竜二*; Konczykowski, M.*; Van der Beek, C. J.*; 加藤 智成*; 橋本 顕一郎*; 下澤 雅明*; 宍戸 寛明*; 山下 穣*; 石角 元志; 鬼頭 聖*; et al.
Physica C, 470(Suppl.1), p.S485 - S486, 2010/12
被引用回数:0 パーセンタイル:0(Physics, Applied)鉄系オキシニクタイドPrFeAsO単結晶における と -planesのより下部臨界磁場を報告する。磁束ピン止めによって決定の困難さを回避することで、センサーの位置ごとの局所の磁気誘導を評価できる小型のホールセンサーアレイを使った新方式を開発した。結晶の縁に置かれたホールセンサーは、マイスナーの状態から最初の磁束侵入を明瞭に解明した。 によるの温度依存性は、面内侵入の深さによって計測され、完全ギャップの超伝導状態と一致する。低温でのの異方性は3であると評価され、それはよりさらに小さいものである。これは、マルチバンド超伝導性を意味し、超伝導性のアクティヴバンドはより二次元的である。
Van der Beek, C. J.*; Rizza, G.*; Konczykowski, M.*; Fertey, P.*; Monnet, I.*; 岡崎 竜二*; 加藤 智成*; 橋本 顕一郎*; 下澤 雅明*; 宍戸 寛明*; et al.
Physica C, 470(Suppl.1), p.S385 - S386, 2010/12
被引用回数:1 パーセンタイル:6.48(Physics, Applied)ニクタイド超伝導体PrFeAsO中の結晶の乱れが、磁束の新入の磁気光学可視化,透過型電子顕微鏡,放射光X線回折を用いて調べられた。磁束分布の臨界状態,臨界電流の大きさと温度依存性が、すべての温度で酸素欠陥によるバルクの磁束ピン止めを示す。
岡崎 竜二*; Konczykowski, M.*; Van der Beek, C. J.*; 加藤 智成*; 橋本 顕一郎*; 下澤 元幸*; 宍戸 寛明*; 山下 穣*; 石角 元志; 鬼頭 聖*; et al.
Physical Review B, 79(6), p.064520_1 - 064520_6, 2009/02
被引用回数:60 パーセンタイル:87.75(Materials Science, Multidisciplinary)鉄砒素系超伝導体PrFeAsO超伝導単結晶の下部臨界磁場とその異方性の評価を行った。
目黒 義弘; 加藤 潤; 大井 貴夫; 駒 義和; 芦田 敬; 杉山 大輔*; 中林 亮*; 藤田 智成*; 塚本 政樹*; 内山 秀明*; et al.
no journal, ,
福島第一原子力発電所における水処理二次廃棄物(セシウム吸着装置, 第二セシウム吸着装置, 除染装置)から発生する二次廃棄物について、解析的手法に基づくインベントリと汚染水の分析結果に基づくそれを比較した。