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西川 宏之*; 惣野 崇*; 服部 雅晴*; 大木 義路*; 渡辺 英紀*; 及川 将一*; 荒川 和夫; 神谷 富裕
JAERI-Review 2003-033, TIARA Annual Report 2002, p.254 - 256, 2003/11
原研TIARAの軽イオン及び重イオンマイクロビーム装置を用い、マイクロビーム二次元走査によりフォトにクス基盤材料であるシリカガラスに導波、発光、調光機能を持つ微細な三次元構造を形成するための基礎研究を行った。細い短冊状にマイクロビーム照射した試料について顕微PL-ラマン分光及びAFMによるマッピングを行い、誘起される種々の構造変化を調べ、NBOHCによる650nmのPL帯の強度の分布、及び飛程近傍での高密度化による表面での凹部の生成が観測された。高品質なフォルター素子の作成を目指した光ファイバへのH
マイクロビーム照射実験では、コア部の局所領域に屈折率変化を誘起することができた。
西川 宏之*; 惣野 崇*; 服部 雅晴*; 西原 義孝*; 大木 義路*; 渡辺 英紀*; 及川 将一*; 神谷 富裕; 荒川 和夫
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B, 191(1-4), p.342 - 345, 2002/05
被引用回数：3 パーセンタイル：24.4(Instruments & Instrumentation)シリカガラスを用い、MeVエネルギーのイオンマイクロビームの照射効果を顕微フォトルミネッセンス(PL)・ラマン分光器と原子間顕微鏡(AFM)を用いて調べた。フォトルミネッセンス測定では、非架橋酸素ラジカル(≡Si-O)による欠陥を示す650nm帯が、イオンの飛跡に沿って分布している。また、マイクロビームの走査照射により生じた表面形状変化をAFMを用いて調べた結果、表面形状変化はビーム走査幅とイオン到達深度に良く対応して生じていることを明らかにした。さらに、照射と未照射の境界領域に強いPL強度分布を示す部分が生成することを見出した。この境界領域では、シリカガラス内部の高密度化とそれに付随して生じた表面形状変化による応力が原因で生成した欠陥と考えられる。
-doped silica-core optical fiber小山 武志*; 道口 信行*; 大木 義路*; 西川 宏之*; 日馬 康雄; 瀬口 忠男
Japanese Journal of Applied Physics, 33(7A), p.3937 - 3941, 1994/07
被引用回数：2 パーセンタイル：17.88(Physics, Applied)エルビウムをドープした光ファイバに
線を照射し、損失の増加を解析した。損失は主としてErの還元により生成するEr
によって誘起されるが、Erの濃度には依存しない。損失の増加はEセンターの生成式から導かれる2つの指数項と1つの直線項により表される。Eセンターの生成に関するホールトラッピングが還元を誘起する電子を供給し、損失の増加に重要な役割を果たしていると考えられる。
線誘起損失の解析小山 武志*; 道口 信行*; 西川 宏之*; 大木 義路*; 日馬 康雄; 瀬口 忠男
DEI-93-165, 0, p.11 - 19, 1993/12
希土類元素の一種であるエルビウム(Er)をドープした石英系光ファイバの線照射による光学的・物理的特性を測定し、損失増加曲線を解して損失のメカニズムを考察した。
浜 義昌*; 大木 義路*; 日馬 康雄
EIM-90-44, p.75 - 82, 1990/04
電気学会絶縁材料技術委員会の下部委員会である放射線等環境下における誘電・絶縁材料調査専門委員会におけるデータベース構築活動を紹介する。当委員会では前委員会に引続き、耐放射線性に関するデータベース構築のための基本的なデータフォーマットの検討を進めてきたが、本報告では、これらデータフォーマットならびにデータベース構築上の問題点について報告する。
