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-lactic acid) using electron beam nanoimprint lithography大久保 聡*; 長澤 尚胤; 小林 亜暢*; 大山 智子*; 田口 光正; 大島 明博*; 田川 精一*; 鷲尾 方一*
Applied Physics Express, 5(2), p.027303_1 - 027303_3, 2012/02
被引用回数：4 パーセンタイル：18.19(Physics, Applied)放射線架橋により耐熱性が改善されたポリ--乳酸(PLLA)の新たな応用分野開拓を目的として、マイクロ/ナノデバイスに利用可能な微細加工体の作製について、電子線ナノインプリント法(EB-NIL)により検討した。EB-NILは、Siモールド上にPLLA/TAIC(95:5)をクロロホルムで希釈した混合溶液を滴下して作製した薄膜に電子線を10から500kGy照射して行った。その結果、すべての条件でマイクロ/ナノスケールの微細構造体の転写に成功した。それら微細構造体の転写精度及び耐熱性を評価したところ、100kGy照射試料において最も転写精度が高く、またPLLAの軟化点以上の70-120
Cで10分間加熱しても形状を保持しており、マイクロ/ナノ構造体においても架橋の効果が十分に現れることが見いだされた。
小林 亜暢*; 日名田 暢*; 大久保 聡*; 大山 智子; 長澤 尚胤; 田口 光正; 大島 明博*; 田川 精一*; 鷲尾 方一*
no journal, ,
高温下の電子線照射で架橋ポリテトラフルオロエチレンの転写体を得る新規微細加工プロセスに用いたSiモールドについて、表面の元素組成や粗さをXPSやAFMで測定した。その結果、600kGy以上で表面がフッ素化した滑らかなモールドが得られることがわかった。フッ素化したモールドを用いて難剥離材料(ポリカプロラクトン)に対してのナノインプリントリソグラフィーを行った結果、剥離及び形状の転写に成功した。
