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口頭

照射下における過渡的損傷の解明のためのAMOC測定装置の開発

上田 大介*; 小西 涼香*; 南川 英輝*; 平出 哲也; 土田 秀次*

no journal, , 

イオンビームなどの照射下における損傷状態は過渡的で不安定である。この過渡的損傷状態の解明は、損傷の生成から安定化に至る過程を理解する上で重要である。過渡的な損傷により生成する活性種を、三重項ポジトロニウム(o-Ps)をプローブとして調べるために$$beta$$$$^{+}$$-$$gamma$$同時計測によるAge-MOmentum Correlation(AMOC)測定装置の開発を行っている。AMOC測定で得られる"陽電子の消滅時刻"と"消滅時の電子・陽電子対の運動量"の相関から、o-Psの消滅過程を調べることが可能である。デジタル手法により新しく構築しているAMOC装置について報告する。

口頭

$$beta$$$$^{+}$$-$$gamma$$同時計測法によるAMOC測定装置の開発

小西 涼香*; 上田 大介*; Xu, Q.*; 平出 哲也; 土田 秀次*

no journal, , 

イオンビームなどによる過渡的損傷状態の解明のために、$$beta$$$$^{+}$$-$$gamma$$同時計測による陽電子消滅寿命-運動量相関(Age-MOmentum Correlation: AMOC)測定装置をデジタル手法により新しく構築した。今回、$$beta$$$$^{+}$$-$$gamma$$同時計測法ベースのAMOC測定装置を利用し、ポリスチレンの$$gamma$$線照射効果について調べた。その結果、損傷量の増加に対応して1ns付近のSパラメータが減少する結果を得た。

口頭

イオン照射下石英ガラスのAMOC測定

小西 涼香*; 南川 英輝*; 間嶋 拓也*; 今井 誠*; 斉藤 学*; 平出 哲也; 土田 秀次*

no journal, , 

石英ガラスにおけるイオン照射下損傷挙動の解明を目的として、陽電子消滅寿命と消滅$$gamma$$線ドップラー広がりを同時測定するAMOC(Age-MOmentum Correlation)測定を、2MeVのプロトン照射下において行った。石英ガラスの空隙において陽電子消滅に関与する電子の運動量分布の変化から、損傷挙動のフラックス依存性を検出できることが明らかとなった。

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