疎水性,親水性新規ジアミド化合物を併用するMA相互分離,13; 新規ジアミドを用いるMA相互分離まとめ

佐々木 祐二; 津幡 靖宏; 北辻 章浩; 須郷 由美; 白数 訓子; 池田 泰久*; 川崎 武志*; 三村 均*; 臼田 重和*; 山西 慧*

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新抽出剤,錯形成剤を用いる高レベル放射性廃液(HLW)中のAm, Cm及びLn(ランタノイド)の相互分離法開発を行った。利用した化合物はこれまで報告例のないものを含んでおり、基礎抽出データ取得,物性評価に加えて、金属-配位子錯形成の理論的解明を導く構造解析も進めた。その結果、抽出剤はいずれも無極性溶媒のドデカンに可溶であり、このことはほとんどすべての有機溶媒に溶解可能であることを示す。TODGAと比較してDOODA物性についての不利な点はなく、プロセス利用での問題点はないことを確認した。また、TODGAとDOODA(C8)はシリカゲルに坦持することが可能であり、これを吸着剤とするカラム分離を行った。比較的高いAm/Cm分離比を示す条件を使って抽出クロマトグラフを実施し、Am, Cm相互分離についての可能性を示した。構造解析のための単結晶作製においては、合成のしやすさから、同じ骨格を持つ水溶性の化合物を利用し、配位子間及びLn間の錯体構造の違いを明らかにした。プロセス評価では抽出溶媒1種の単サイクルでの計算を実施した結果について報告する。