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水田 好雄*; 細貝 知直*; 益田 伸一*; Zhidkov, A.*; 牧戸 啓悟*; 中新 信彦*; 梶野 祥平*; 西田 明憲*; 神門 正城; 森 道昭; et al.
Physical Review Special Topics; Accelerators and Beams, 15(12), p.121301_1 - 121301_10, 2012/12
被引用回数：21 パーセンタイル：72.39(Physics, Nuclear)Laser wakefield acceleration is capable of generating electron bunches with high quality: quasi-monoenergetic, low in emittance, and a very short duration of the order of ten femto-seconds. Such femtosecond bunches can be used to measure ultrafast phenomena. We conducted experiments for controllable electron bunch generation. Short-lived, 
10 ps, deep plasma channels, with their lengths of 1 mm and diameters of 20 
m, are observed and characterized in Ar gas jets irradiated by moderate intensity, 10
W/cm
, laser pulses with a duration from subpicosecond to several picoseconds. The channels, upon 2D particle-in-cell simulations including ionization, fit well in the guiding of high intensity femtosecond laser pulses and, therefore, in laser wakefield acceleration with a controllable electron self-injection.
森 道昭; 近藤 公伯; 水田 好雄*; 神門 正城; 小瀧 秀行; 西内 満美子; 加道 雅孝; Pirozhkov, A. S.; 小倉 浩一; 杉山 博則*; et al.
Physical Review Special Topics; Accelerators and Beams, 12(8), p.082801_1 - 082801_5, 2009/08
被引用回数：23 パーセンタイル：77.92(Physics, Nuclear)4TWレーザーを用いて、セルフインジェクション領域において生成される、準単色電子の安定性と発散角を調べた。アルゴンターゲットにおいて、ヘリウムの最適値の1/3以下の2.4mradのポインティング安定性と10.6mradの発散角を見いだした。このときの電子ビームのエネルギーピークは、アルゴン,ヘリウムそれぞれで8.5
0.7MeV及び24.83.6MeVであった。これらの実験結果は、同じ照射条件にもかかわらず、異なるターゲット材質を用いたことによって生じるレーザー伝搬の違いを示すものである。
森 道昭; Pirozhkov, A. S.; 神門 正城; 水田 好雄*; 近藤 公伯*; 田中 和夫*; 本間 隆之; 大東 出; 小倉 浩一; 匂坂 明人; et al.
no journal, ,
2006年12月から2007年2月にかけて原子力機構テラワットレーザー装置JLITE-Xを使って行った準単色電子線発生実験について報告する。チャープミラーや位相変調器に代表される位相コントロール素子の進歩によって、サブ10フェムト秒(fs)のパルスが容易に生成できるようになった。この光をプローブ光源に用いることで、準単色電子線発生のメカニズムやフェムト秒電子ビームの診断が可能となる。これらの観測を目的に既存のテラワットレーザー装置JLITE-X(4TW/35fsレーザー装置)に付加する形で10fs光発生系を立ち上げを行った。その結果、TG-FROGによる実測で
9.4fs(半値全幅)であることを確認するとともに、30MeV級準単色電子ビーム生成時のメインレーザー光の伝搬の様子をこの光を用いて観測した。講演では、これらの詳細について報告する。
森 道昭; 水田 好雄*; 近藤 公伯; 西内 満美子; 加道 雅孝; 神門 正城; Pirozhkov, A. S.; 小瀧 秀行; 小倉 浩一; 杉山 博則*; et al.
no journal, ,
原子力機構では、大阪大学と共同でレーザー駆動準単色電子ビームの応用に向け、レーザー及びターゲット条件の最適化を進めている。本講演ではこれに関連し、JLITE-Xレーザーで発生したパルス幅40fs・ピーク出力4.1TWのレーザー光を、f/20(f=625mm)の軸外し放物面鏡でアルゴン及びヘリウムgasjet上に集光することで生じる電子ビームを評価しビームサイズがレーザーパワー・プラズマ密度及びガス種に依存することを初めて明らかにした。また最小のビームサイズが得られているガス種・ガス圧・レーザーピーク出力・ガス圧(アルゴン,0.4MPa,4.1TW)の条件において、再現性80%で9.11.0MeVのこれまでのわれわれの研究成果と比較して安定性の高い準単色電子ビームが得られていることも明らかにした。
森 道昭; 水田 好雄*; 近藤 公伯; 西内 満美子; 加道 雅孝; 神門 正城; Pirozhkov, A. S.; 小瀧 秀行; 小倉 浩一; 杉山 博則*; et al.
no journal, ,
原子力機構では、大阪大学と共同でレーザー駆動準単色電子ビームの応用に向け、レーザー及びターゲット条件の最適化を進めている。本講演ではこれに関連し、JLITE-Xレーザーで発生したパルス幅40fs・ピーク出力4.1TWのレーザー光を、f/20(f=625mm)の軸外し放物面鏡でアルゴン及びヘリウムgasjet上に集光することで生じる電子ビームを評価しビームサイズがレーザーパワー・プラズマ密度及びガス種に依存することを初めて明らかにした。また最小のビームサイズが得られているガス種・ガス圧・レーザーピーク出力・ガス圧(アルゴン,0.4MPa,4.1TW)の条件において、再現性80%で9.11.0MeVのこれまでのわれわれの研究成果と比較して安定性の高い準単色電子ビームが得られていることも明らかにした。
飯野 雄基*; 秋田 貢一*; 佐野 雄二*; 水田 好雄*; 玉置 悟司*; 菖蒲 敬久
no journal, ,
Currently, aging society is progressing worldwide, and then it is important to expand healthy life expectancy. From the research results of heathy life, oral health has been found to be affected healthy life expectancy. Therefore, dental implant treatments have become widely used. However, fracture of the implant components has been reported. This study attempted to solve this problem by Low Energy Laser Peening (LELP). It uses lower energy than that of current Laser Peening (CLP). For example, the energy in CLP is 200 mJ while it is 1.5 mJ in LELP. A previous study reported that CLP couldn't improve the fatigue strength of a miniature size specimen of Ti-6Al-4V for implant components because the introduced compressive residual stress layer was too large and therefore balancing tensile residual stress became relatively high. In contrast, LELP introduces relatively thinner compressive stress layer and small balancing tension. Therefore, LELP is thought suitable for enhancing fatigue strength of miniature size samples. This study focuses on the fatigue strength enhancement of Ti-6Al-4V by LELP. Biocompatibility of the LELP treated surface is also examined. Results will be presented at the conference.
千代 隼久*; 秋田 貢一*; 佐野 雄二*; 水田 好雄*; 玉置 悟司*; 菖蒲 敬久
no journal, ,
本研究では、極表層に残留応力を付与できる低エネルギーのレーザーピーニング4)(Low-energy laser peening: LLP)を電磁鋼板の打抜き加工面に適用し、残留応力の改善とそれによる疲労強度向上を試みた。実験は実験室系X線及び放射光X線を利用した、表面から内部に至るひずみ分布計測を行った。その結果、打抜きによって発生した高い引張残留応力がLLP施工によって圧縮残留応力に転換されること、LLP施工の圧縮残留応力生成によってバランスする引張残留応力は非常に小さいこと、そして、LLP施工時に発生する腐食を抑えたWEDM試験片において疲労強度が大幅に改善されることを明らかにした。
