Defect structure in neutron-irradiated -LiAl and -LiAl; Electrical resistivity and Li diffusion

須貝 宏行; 棚瀬 正和; 矢萩 正人*; 芦田 敬*; 浜中 廣見*; 栗山 一男*; 岩村 国也*

Physical Review B, 52(6), p.4050 - 4059, 1995/08

https://doi.org/10.1103/PhysRevB.52.4050

-LiAl中のリチウムと、中性子照射によって生成されたトリチウムの拡散が、拡散経路として働くLi原子空孔との関連で調べられた。中性子照射した-LiAlの電気抵抗率と、その-LiAlから放出されるトリチウム量を、300-800Kの温度範囲で同時測定した。この結果、Li原子空孔とAl原子位置の置換Li原子からなる複合欠陥が、Li(n,H)He反応によって分解されることが示唆された。また、-LiAl(Li濃度48-56%)のLi濃度51.9%以下では複合欠陥を形成しないLi原子空孔、Li濃度51.9%以上では複合欠陥中のLi原子空孔がLiの拡散を支配し、リチウムとトリチウムの拡散に密接な関係のあることが明らかとなった。