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口頭

硬化セメントペースト中のヨウ素イオンおよびセシウムイオンの拡散挙動

川戸 陸也*; 石田 圭輔*; 山本 武志*; 湊 大輔*; 藤崎 淳*; 浜本 貴史*; 三原 守弘

no journal, , 

硬化セメントペースト(HCP)中のヨウ素イオン(I$$^{-}$$)とセシウムイオン(Cs$$^{+}$$)の拡散挙動を観察するために、5年間以上湿空養生した異なる水セメント比の供試体に対し、I$$^{-}$$とCs$$^{+}$$をトレーサーとした一面解放浸漬試験を実施し、EPMAを用いた深さ方向の元素濃度面分析を行った。

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