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論文

Cesium adsorption ability and stability of metal hexacyanoferrates irradiated with $$gamma$$-rays

有阪 真; 渡邉 雅之; 石崎 学*; 栗原 正人*; Chen, R.*; 田中 寿*

Journal of Radioanalytical and Nuclear Chemistry, 303(2), p.1543 - 1547, 2015/02

 被引用回数:13 パーセンタイル:70.51(Chemistry, Analytical)

不溶性フェロシアン化物は、溶液中のセシウム(Cs)を選択的に吸着する材料としてよく知られている。本研究では、不溶性フェロシアン化物類縁体であるヘキサシアノ鉄酸金属錯体塩(MHCF: M=Fe, Cu, Ni)から成るナノ粒子吸着材を対象に、$$gamma$$線照射に対する吸着材の安定性と$$gamma$$線照射がCs吸着能に与える影響について調べた。50$$sim$$300kGyの吸収線量の範囲において、$$gamma$$線照射後の硝酸中にFe, Cu、又はNiがわずかながら検出され、吸収線量の増加に伴いそれらの濃度が増加することから、放射線分解の進行が確認された。その際、MHCF中の炭素, 窒素, 水素の組成比は維持されていた。一方、CsのMHCFへの分配係数は充分に大きな値を示し、明確な吸収線量依存性が見られなかったことから、長期の使用に耐え得ると考えられる。

論文

Proton-exchange mechanism of specific Cs$$^{+}$$ adsorption $$via$$ lattice defect sites of Prussian blue filled with coordination and crystallization water molecules

石崎 学*; 秋葉 沙依*; 大谷 麻子*; 星 祐二*; 小野 健太*; 松葉 茉優*; 富樫 貴成*; 金井塚 勝彦*; 坂本 政臣*; 高橋 顕*; et al.

Dalton Transactions, 42(45), p.16049 - 16055, 2013/12

 被引用回数:178 パーセンタイル:99.58(Chemistry, Inorganic & Nuclear)

福島第一原子力発電所の事故を受けて、プルシアンブルー(PB)をベースにした高性能セシウム(Cs)吸着剤を開発するために、PBへのCsイオンの吸着の基本メカニズムを明らかにした。Csイオン吸着能に関して2種類のPBナノ粒子を比較したところ、4Fe$$^{3+}$$と3[Fe$$^{II}$$(CN)$$_{6}$$]$$^{4-}$$から合成された典型的なPB-1では、市販のPB-2よりも効率的に吸着することを明らかにした。この違いが、PB上に形成される欠陥の数で決まることを突き止めることができた。

口頭

JRR-3ヘリウム圧縮機Vリング装置部の一部改良

石崎 勝彦; 太田 和則; 竹内 真樹; 今橋 正樹; 福島 学

no journal, , 

平成21年度の施設定期自主検査期間中にヘリウム圧縮機の分解点検を実施した後、シールオイルレベルが漏えいする事象が発生した。原因調査の結果、Vリング装置の部品の取り付け不良により内部部品が上下に微動し、それにより微小に変形した部品によりシールオイルを閉じ込める機能が損失し、シールオイルの漏えいが発生することがわかった。対策としてVリング装置の一部をよりシール性の高い部品に変更したこと及び取り付けを確実にするため部品を追加した。

口頭

セシウム用吸着剤ヘキサシアノ鉄酸金属錯体の放射線耐性

有阪 真; 渡邉 雅之; 石崎 学*; 栗原 正人*; Chen, R.*; 田中 寿*

no journal, , 

本研究では、不溶性フェロシアン化物類縁体であるヘキサシアノ鉄酸金属錯体(MHCF)から成る吸着材を電極に用い、高レベル廃液中に含まれるセシウムを電気化学的に回収することを目指している。今回は、その材料となるMHCFの$$gamma$$線に対する安定性とセシウム吸着能に与える影響を調べた。$$gamma$$線照射は、MHCF単独または硝酸共存下で行われた。MHCF中の炭素,水素,窒素の組成を照射前後で比較したところ、硝酸の有り無しに関わらず、変化は確認されなかった。一方、硝酸共存下での照射後、分離した硝酸をICP-MSにより分析したところ、MHCFを構成する鉄および銅が検出され、吸収線量の増加に伴いその量が僅かながら増加することが確認された。これらの結果から、$$gamma$$線照射によるMHCFの放射線分解はMHCFの組成を維持しながら進行することがわかった。また、$$gamma$$線照射後のMHCFを用いてセシウムの吸着試験を行ったところ、セシウムのMHCFに対する分配係数は吸収線量に関わらず、高い値で維持された。300kGyまでの吸収線量では、MHCFは繰り返し使用に耐え得ることがわかった。

口頭

ヘキサシアノ鉄酸銅錯体ナノ粒子吸着電極に対する共存イオンの影響

田中 寿*; Chen, R.*; 浅井 幸*; 福島 千賀子*; 川本 徹*; 石崎 学*; 栗原 正人*; 有阪 真; 南川 卓也; 渡邉 雅之

no journal, , 

Csの吸着材料としてよく知られているヘキサシアノ鉄酸金属錯体塩(MHCF)を新たにナノ粒子インク化することで加工性を高め、ユーザビリティに優れた材料としての応用を進めてきた。このインク化MHCFを用いて、選択的Cs分離回収を電気的にかつ繰り返し行うことのできるシステムの構築を目指している。今回の報告では、その電気化学的吸着脱離条件について、特に複数イオン共存下の特性について報告する。

口頭

Compact Cs separation by electrochemical adsorption/desorption using copper hexacyanoferrate film in a column system

Chen, R.*; 田中 寿*; 福島 千賀子*; 浅井 幸*; 川本 徹*; 栗原 正人*; 石崎 学*; 有阪 真; 南川 卓也; 渡邉 雅之

no journal, , 

ヘキサシアノ鉄酸遷移金属化合物(MHCFs)は、選択性と高い吸着容量により優秀なイオン交換体として知られている。CuHCF$$^{III}$$はアルカリ金属イオン特にセシウムの分離において放射性廃棄物からの分離に利用されてきた。これまでCuHCF$$^{III}$$ナノ粒子を電極材料上に被覆した電極をカラムシステム中に組み込むことでセシウムの電気化学的除去が可能な簡便な方法の開発を行ってきた。本研究では、カラム試験において連続的に放射性セシウムを分離できることを示す。

口頭

セシウムの吸着分離に用いるヘキサシアノ鉄酸金属錯体薄膜の放射線耐性

有阪 真; 渡邉 雅之; 石崎 学*; 栗原 正人*; Chen, R.*; 田中 寿*

no journal, , 

本研究では、不溶性フェロシアン化物類縁体であるヘキサシアノ鉄酸金属錯体(MHCF)から成る吸着材を電極に用い、高レベル廃液中に含まれるセシウムを電気化学的に回収することを目指している。今回は、SUS316L基板上に作成したMHCF薄膜の$$gamma$$線照射に対する安定性について調べた。MHCF薄膜への$$gamma$$線照射は、硝酸共存下で行われた。照射後に分離した硝酸をICP-MSにより分析したところ、MHCFを構成する鉄および銅が検出され、鉄および銅の溶出量は、70kGy程度まで一様に増加し、その後一定値となることを確認した。照射前に基板上に固定化されたMHCF重量の20-30%の溶出が起きる一方、共存する硝酸の濃度によりそれらの溶出挙動は変化しなかった。粉末状のMHCFの放射線耐性は非常に高いことがわかっているので、基板上への固定化の方法については再検討が必要であることがわかった。

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