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論文

Sodium-cooled Fast Reactors

大島宏之; 森下正樹*; 相澤康介; 安藤勝訓; 芦田貴志; 近澤佳隆; 堂田哲広; 江沼康弘; 江連俊樹; 深野義隆; et al.

Sodium-cooled Fast Reactors; JSME Series in Thermal and Nuclear Power Generation, Vol.3, 631 Pages, 2022/07

https://shop.elsevier.com/books/sodium-cooled-fast-reactors/morishita/978-0-12-824076-2

ナトリウム冷却高速炉(SFR: Sodium-cooled Fast Reactor)の歴史や、利点、課題を踏まえた安全性、設計、運用、メンテナンスなどについて解説する。AIを利用した設計手法など、SFRの実用化に向けた設計や研究開発についても述べる。

論文

Detailed structural analysis and dielectric properties of silicon nitride film fabricated using pure nitrogen plasma generated near atmospheric pressure

早川竜馬*; 中永麻里*; 吉村毅*; 芦田篤*; 藤村典史*; 上原剛*; 田川雅人*; 寺岡有殿

Journal of Applied Physics, 100(7), p.073710_1 - 073710_8, 2006/10

https://doi.org/10.1063/1.2353781

被引用回数：12 パーセンタイル：42.56(Physics, Applied)

大気圧プラズマ(AP)法で形成されたシリコン酸窒化膜について詳細な構造分析と絶縁特性の測定を行った。その結果をRFプラズマの場合と比較した。AP法の場合は298から773Kの範囲でSi $_{3}$ N $_{3.5}$ O $_{0.7}$ の組成を持つ1.8nmの膜が形成される。1486.6eVの単色Al-Ka線と高分解能ラザフォード後方散乱分光からN原子がNSi $_{3}$ 結合に関与する割合はAPプラズマの方が10%以上大きいことがわかった。298から773Kの範囲ではリーク電流密度は変わらない。298Kで形成した膜のそれは5MV/cmの電界強度のとき710 $^{-2}$ A/cm $^{2}$ である。この値はRFプラズマの場合に比べて一桁小さい。