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論文

Small-angle neutron scattering study on specific polymerization loci induced by a copolymerization of polymerizable surfactant and styrene during miniemulsion polymerization

元川 竜平; 谷口 竜王*; 佐々木 祐亮*; 榎本 勇人*; 村上 史泰*; 春谷 昌克*; 桑折 道済*; 中平 隆幸*

Macromolecules, 45(23), p.9435 - 9444, 2012/11

 被引用回数:9 パーセンタイル:30.29(Polymer Science)

We have investigated the origin of a specific polymerization locus that yielded copolymer particles with a bimodal gel permeation chromatographic profile in the early stage of miniemulsion polymerization of styrene (St) with C$$_{12}$$DMAEMA. The formation of particles by miniemulsion polymerization using C$$_{12}$$DMAEMA was investigated as a function of the polymerization time ($$t$$$$_{rm p}$$), and was compared with that using the non-polymerizable surfactant CTAB. GPC and elemental analysis indirectly predicted two different polymerization loci in the St/C$$_{12}$$DMAEMA/V50 polymerization system. Time-resolved SANS was used to directly observe and examine the specific polymerization loci in the miniemulsion polymerization solutions. The droplets formed in St/C$$_{12}$$DMAEMA/V50/PSt hydrophobe at the initial stage of the polymerization were not fully stabilized by C$$_{12}$$DMAEMA and poly(C$$_{12}$$DMAEMA-ran-St), and were found to build up the large aggregates. The spherical droplets were stabilized later in tp $$>$$ 20 min by forming a homogeneous dispersion in the water phase. Porod analysis of the power law scattering observed by SANS provided direct evidence for the specific polymerization loci, which appeared in the early stage of the polymerization system of St/C$$_{12}$$DMAEMA/V50/PSt hydrophobe on the surface of the droplet, and was the origin of the bimodal peaks in the GPC chromatogram.

論文

再処理工場設備保全管理支援システムの開発

岩崎 省悟; 谷口 隆幸

サイクル機構技報, (1), p.63 - 70, 1998/12

以下の内容について動燃技報に掲載する。再処理工場の機械、電気、計装等の膨大な設備の保全は年間1万件にも及び、その内90%は予防保全である。これらの保全の管理においては必然的に保全情報の適切な管理が必要であることから、昭和60年から平成4年にかけて再処理工場に適した保全管理の支援コンピュータシステムを開発した。設備の不具合や、点検、更新等の計画に利用しているが、補足を加える点等もあり、今後とも改良や拡充が必要である。

報告書

放電遅延時間制御によるTEA-CO2レーザーシステムの出力制御

宮本 泰明; 谷口 隆幸; 川上 重秋; 長谷川 信; 島崎 善広

PNC TN8410 92-197, 22 Pages, 1992/07

PNC-TN8410-92-197.pdf:0.33MB

レーザー光を利用する際に出力エネルギーを制御する方法としては、レーザー装置に投入する励起エネルギーを制御する方法が一般的である。この方法は発振器と増幅器から構成されるMOPAシステムにおいても用いられ、励起エネルギーの制御幅が十分にある場合には簡単で確実な方法であるが、制御幅が狭い場合、出力エネルギーの制御幅も同様となり問題が生ずる。分子レーザー法ウラン濃縮工学実証試験におけるレーザーシステムとして、TEA-CO/SUB2レーザーシステムを用いているが、そのスイッチ電源に全固体素子電源を用いているために媒質への放電電圧の制御幅が狭く、ウラン濃縮試験を実施する上で、レーザー出力エネルギーを濃縮試験に必要な幅で制御することが難しかった。そこで、レーザーシステムの出力エネルギー制御方法として、発振器と増幅器の放電遅延時間を制御する方法を考案し、実験的検証を実施した。その結果、発振器と増幅器の放電遅延時間を制御することによって、レーザーシステムの出力エネルギーを制御可能であることを確認した。また、この方法により出力エネルギーを制御することにより、レーザー発振中に出力調整を行った場合でも媒質に与える熱的な変動を抑えることが可能となると考えられる。

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