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八巻 徹也; Nuryanthi, N.*; 越川 博; 澤田 真一; 浅野 雅春; 前川 康成; Voss, K.-O.*; Christina, T.*
no journal, ,
従来から検討がなされてきたポリエチレンテレフタレートやポリカーボネートなどの炭化水素系高分子ではなく、フッ素系高分子、特にポリフッ化ビニリデン(PVDF)からなるイオン穿孔膜に着目し、そのエッチング挙動や応用性に関する研究を進めている。本研究では、PVDFイオン穿孔膜において、照射イオンの線エネルギー付与(LET)とその深さ分布で決まる飛跡構造を利用することにより、孔径と形状の制御を試みた。穿孔膜の孔径は照射イオンのLETに敏感であるとの知見をもとに、貫通イオンの表面,裏面におけるLET差を利用して両面で孔径の異なった円錐状穿孔を有するイオン穿孔膜を作製した。
八巻 徹也; Nuryanthi, N.*; 越川 博; 浅野 雅春; 澤田 真一; 箱田 照幸; 前川 康成; Voss, K.-O.*; Severin, D.*; Seidl, T.*; et al.
no journal, ,
本研究では、より速く効率的にポリフッ化ビニリデン(PVDF)イオン穿孔膜を作製することを目指し、GSIにおける「その場」かつ「オンライン」分析によって、潜在飛跡内に存在する化学種の構造や反応性を調べた。その結果、照射と同時に生成したラジカルを介して、PVDF鎖中および切断末端の不飽和結合が主に生成することがわかった。また、このような飛跡内の生成物にのみ作用しエッチングを加速するための改質過程、いわゆる前処理の方法としてオゾン曝露の有効性を示した。以上のように、フッ素系高分子のイオン穿孔膜において、従来から課題となっていた孔径と形状を制御できる見通しが得られたので、それに至る研究展開をレビューする。