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保坂 勇志*; 大山 智子; 大島 明博*; 榎本 智至*; 鷲尾 方一*; 田川 精一*
Journal of Photopolymer Science and Technology, 26(6), p.745 - 750, 2013/12
被引用回数：11 パーセンタイル：35.05(Polymer Science)ポジ型塩素系電子線レジストZEP520Aは高感度・高分解能・高エッチング耐性を持つレジストとして知られている。本研究では大阪大学Lバンドライナックのパルス電子ビーム(エネルギー28MeV)を用い、ジクロロメタンおよびテトラヒドロフラン(THF)溶液中のナノ秒パルスラジオリシス法によって反応機構を調査した。その結果、解離性電子付着による塩素の脱離と電荷移動錯体の生成による複数の主鎖切断経路が存在することが確認され、主鎖切断のG値が約8と高い理由が明らかになった。また、THFに溶かした高濃度溶液を用いた実験ではZEP520Aの直接イオン化による生成物が確認された。このことから、固体レジスト中(微細加工時の状態)での放射線化学反応の初期過程が、溶液を用いた実験でシミュレートできることが分かった。
坂中 章悟*; 明本 光生*; 青戸 智浩*; 荒川 大*; 浅岡 聖二*; 榎本 収志*; 福田 茂樹*; 古川 和朗*; 古屋 貴章*; 芳賀 開一*; et al.
Proceedings of 1st International Particle Accelerator Conference (IPAC '10) (Internet), p.2338 - 2340, 2010/05
日本においてERL型放射光源を共同研究チームで提案している。電子銃,超伝導加速空洞などの要素技術開発を進めている。また、ERL技術の実証のためのコンパクトERLの建設も進めている。これら日本におけるERL技術開発の現状について報告する。
坂中 章悟*; 吾郷 智紀*; 榎本 収志*; 福田 茂樹*; 古川 和朗*; 古屋 貴章*; 芳賀 開一*; 原田 健太郎*; 平松 成範*; 本田 融*; et al.
Proceedings of 11th European Particle Accelerator Conference (EPAC '08) (CD-ROM), p.205 - 207, 2008/06
コヒーレントX線,フェムト秒X線の発生が可能な次世代放射光源としてエネルギー回収型リニアック(ERL)が提案されており、その実現に向けた要素技術の研究開発が日本国内の複数研究機関の協力のもと進められている。本稿では、ERL放射光源の研究開発の現状を報告する。
榎本 一郎*; 勝村 庸介; 添田 心*; 藤代 敏*
no journal, ,
超高分子量ポリエチレン(UHMWPE)は軽量で強度が非常に強いことから、釣り糸やロープなどの繊維材料としての需要が高くなっている。しかし表面エネルギーが低く疎水性のため接着性や染色性に欠ける。このため表面処理による改質が広く行われている。放射線グラフト重合法は表面処理の効果を長期間維持する点において非常に優れている。放射線によるグラフト重合では、照射によって生成したラジカルを開始剤として利用するが、一般にラジカルの寿命が短く、設備等の条件がかかわってくる。一方、酸化生成物からの分解によって生成するラジカルを開始剤としたグラフト重合法は、取り扱いが容易で実用的である。本研究では放射線照射によって種々のラジカルが混在するUHMWPE試料に対して、グラフト重合に最も影響を与えるラジカル種を特定するとともにそのメカニズムについて検討した。ラジカルや酸化物の分析にはESRやFT-IRを使い、グラフト重合の効果は染色によって評価した。
前川 康成; 榎本 一之; 高橋 周一*; 岩瀬 崇典*; 山下 俊*; 岩瀬 裕希*; 小泉 智
no journal, ,
燃料電池開発において、その心臓部分である電解質膜の高温耐久性が自動車用電源の実現に必要不可欠である。本研究では、炭化水素及びフッ素系基材膜にスチレンスルホン酸やアルキルスルホン酸を導入したグラフト型電解質膜を作製し、燃料電池作動環境に近い高温水中での基材膜とグラフト鎖の化学構造及び高次構造を解析することで劣化機構を検討した。グラフト型電解質膜の耐久性は、グラフト鎖構造に依存するというこれまでの知見を覆し、グラフト鎖は高分子鎖切断など分解することなく、グラフト重合の開始点である基材膜界面から直接脱離すること、及び、この脱離は、疎水性基材膜と相分離した親水性グラフト鎖の含水膨張に起因することを見いだした。グラフト鎖の膨潤による界面脱離を利用することで、これまで基材膜からの単離が困難とされてきたグラフト鎖の構造や分子量が解析できる。
榎本 一之; 高橋 周一*; 岩瀬 崇典*; 山下 俊*; 岩瀬 裕希*; 小泉 智; 前川 康成
no journal, ,
耐熱性高分子膜にスチレンスルホン酸やアルキルスルホン酸を導入したグラフト型電解質膜は、高温水中、スルホ基の熱的脱離やグラフト鎖の主鎖切断など分解することなく、基材膜から直接脱離すること、及び、この脱離は、疎水性基材膜と相分離した親水性グラフト鎖の含水膨張に起因することを見いだした。本研究では、含水膨張によるグラフト鎖脱離を利用することで、これまで耐熱性高分子膜からの単離が困難とされてきたグラフト鎖の同定を行った。今回、ポリアクリル酸メチル(MA)をグラフト鎖として導入したエチレンテトラフルオロエチレン共重合体膜のクロロスルホン酸によるスルホン化反応で得られた電解質膜を85
Cの高温水に100時間浸漬することで、基材膜からグラフト鎖を単離し、NMR及びGPC測定を行った。グラフト鎖構造は、ポリアクリル酸とポリビニルスルホン酸の共重合体及びMAのカルボニル
炭素にスルホ基が付加した構造単位を有することがわかった。このことから、MA膜のスルホン化は、グラフト鎖の加水分解によるカルボン酸の生成及びスルホ基の付加に伴うカルボン酸の脱離が進行していることが示唆された。また、脱離グラフト鎖の分子量は71,900であることがわかった。
)の関与大宮 あけみ*; 豊田 朋美*; 渡邉 英城*; 衛本 圭史*; 長谷 純宏; 能岡 智*
no journal, ,
"神馬"はキクの中で最も生産量が多い白花輪ギク品種である。"神馬"は栽培ギクのなかでも特に花色変異が起こりにくい品種で、これまでに黄花系統は得られていなかった。近年、大分県の圃場において枝変わりにより花弁が淡黄色に変異した"神馬"が発見された。演者らはこれにイオンビームを照射し、さらに黄色みが増した花色変異体を獲得した。花色変異体の花弁ではカロテノイド量の増加が見られた。キクではカロテノイド酸化開裂酵素遺伝子()の発現を抑制すると花弁が白色から黄色に変異することが報告されている。のホモログである
及び
に特異的なプライマーを用いたゲノミックPCRの結果、花色変異体(IB-2系統)ではのみ増幅したことから、イオンビームの再照射により遺伝子が欠失したことが明らかになった。発現しているの配列を解析した結果、原品種では少なくとも5種類のホモログが発現していたが、IB-2系統では1種類のみが発現していた。これらの結果から、"神馬"の花色変異体におけるカロテノイド量の増加は、の活性の低下によってもたらされていることが示された。
