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口頭

長寿命ガラス固化溶融炉に関する技術開発

加藤 淳也; 宮内 厚志; 青嶋 厚; 塩月 正雄; 山下 照雄; 中島 正義; 守川 洋; 三浦 昭彦; 福井 寿樹*; 山崎 晶登*; et al.

no journal, , 

本技術開発の目的は、高レベル放射性廃液の処理処分コスト低減等を図るため、現行のガラス固化溶融炉を高度化し、溶融炉の長寿命化を実現することである。そのため溶融炉の寿命を決定している耐火材の侵食並びに電極消耗の2点に対して対策を講じた新たな長寿命ガラス固化溶融炉の技術開発を行う。耐火物侵食対策としては、溶融炉壁を冷却することによりスカル層(ガラス固体層又は低温高粘性流体層)を形成させ、ガラスによる侵食抑制を図る「長寿命炉壁構造」の開発を行う。電極消耗対策については、現在、炉に固定されている電極を消耗品として容易に交換できるようにするとともに、加熱領域の柔軟性等を有する「可換式電極構造」の開発を行う。また、本開発においては長期に安定な運転条件を把握するため、シミュレーション解析等を進めるとともに、各技術の検証のための小型試験装置の設計及び製作,コールド試験を行い、次世代ガラス固化溶融炉として実用化を図る。

口頭

長寿命ガラス固化溶融炉の成立性に関する予備的検討

山下 照雄; 三浦 昭彦; 加藤 淳也; 塩月 正雄; 大野 勇*; 福井 寿樹*; 山崎 晶登*; 松本 史朗*

no journal, , 

本技術開発の目的は、高レベル放射性廃液の処理処分コスト低減等を図るため、現行のガラス固化溶融炉を高度化し、溶融炉の長寿命化を実現することである。長寿命炉の要求機能に基づく候補炉形式を具体化するとともに、主要高度化技術であるスカル層形成機能及び可換式電極構造について、設計検討,基礎試験及び解析評価により成立性を評価し、開発目標である炉寿命20年間を達成できる溶融炉概念と各技術条件の見通しが得られた。これらの成果をもとに次年度以降、各要素技術評価試験,小型炉試験,シミュレーション解析評価を実施し、平成20年度までに長寿命炉の基本仕様を具体化し成立性を確認する。

口頭

ハニカム格子を形成するスピン系Li$$_{3}$$Ni$$_{2}$$${it A}$O$$_{6}$$(${it A}$=Sb, Bi)の磁気ダイナミクスと磁気構造

福井 皓人*; 安井 幸夫*; 星川 晃範*; 石垣 徹*; 井川 直樹

no journal, , 

ハニカム格子を形成するLi$$_{3}$$Ni$$_{2}$$${it A}$O$$_{6}$$(${it A}$=Sb, Bi)について、粉末中性子回折実験により得た磁気反射を解析して磁気構造を調べた。${it d}$=0.856nmにおける超格子磁気反射強度は${it T}$ $$_{rm N}$$付近から降温とともに徐々にピークが出現した。このため、低温で新たに出現する反射は反強磁性転移に伴う磁気反射であることが分かった。また、その磁気反射は${it h}$ $$pm$$ $$delta$$ ${it k l}$となり${it a}$軸方向にincommensurateな指数$$delta$$ $$sim$$0.165を加えることで説明できた。これにより、本物質ではスピン間の交換相互作用が競合していることが分かった。

口頭

Magnetic properties and crystal structure of honeycomb lattice system Li$$_{3}$$Ni$$_{2}$$SbO$$_{6}$$

福井 皓人*; 安井 幸夫*; 井川 直樹; 松川 健*; 吉田 幸彦*; 星川 晃範*; 石垣 徹*

no journal, , 

粉末中性子回折法を用いた結晶構造解析によって、ハニカム格子システム系磁性物質Li$$_{3}$$Ni$$_{2}$$SbO$$_{6}$$の構造が理想的なハニカム格子からおよそ0.1%ひずみんでいる単斜晶(空間群:${it C}$ 2/${it m}$)であることを明らかにした。磁化率の温度依存性から求めたワイス温度は12.2Kであり、Ni$$^{2+}$$のスピン間の強磁性相互作用が支配的である磁気特性を示した。その一方で13.5Kにおいて反強磁性転移が見出され、その磁気特性は単純ではない。本報ではLi$$_{3}$$Ni$$_{2}$$SbO$$_{6}$$の結晶・磁気構造と磁気特性の相関関係の詳細について議論する。

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