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盛谷 浩右; 岡田 美智雄*; 佐藤 誠一*; 後藤 征士郎*; 笠井 俊夫*; 吉越 章隆; 寺岡 有殿
Journal of Vacuum Science and Technology A, 22(4), p.1625 - 1630, 2004/08
被引用回数：24 パーセンタイル：65.26(Materials Science, Coatings & Films)超熱酸素分子線によるCu{111}表面の酸化過程を放射光を光源とするX線光電子分光により調べた。酸化の効率は被服率0.5ML以下では0.6eV酸素分子線のほうが2.3eV酸素分子線よりも高い。反対に、被服率0.5ML以上では酸化はゆっくり進み2.3eV酸素分子線の方が酸化の効率が高くなる。われわれはこの遅い酸化の反応過程について運動エネルギーの直接的な移行により酸化が進行するモデルを提案した。この結果は酸素分子線のエネルギーを変えることでCu表面における酸化過程を制御できることを示している。
molecular beam岡田 美智雄*; 盛谷 浩右; 後藤 征士郎*; 笠井 俊夫*; 吉越 章隆; 寺岡 有殿
Journal of Chemical Physics, 119(14), p.6994 - 6997, 2003/10
被引用回数：42 パーセンタイル：78.61(Chemistry, Physical)超熱エネルギーの酸素分子ビームを用いたCu(001)の酸化反応が放射光によるX線光電子分光法で研究された。酸化の効率は酸素ガスを用いた場合よりも大きい。2.3eVの酸素ビームを用いると0.5MLよりもさらに酸化は進むが、その効率は非常に小さい。そのような遅い酸化は表面と分子の衝突によって誘起される吸着機構によって起こる。その解離吸着反応の反応速度はラングミュア型吸着における一次の速度論で記述される。
岡田 美智雄*; 後藤 征士郎*; 橋之口 道宏*; 盛谷 浩右*; 寺岡 有殿; 笠井 俊夫*
no journal, ,
われわれは新たに超高真空対応の配向分子ビーム装置を開発した。この装置を用いてSi(100)表面でのCH
Cl分子の解離吸着における立体効果の入射エネルギー及び表面温度依存性を報告する。所期吸着確率はキングとウェルスの方法によって測定した。そのデータから初期吸着確率は塩素端からの衝突の方がメチル端からの衝突の場合より120meVの運動エネルギーの時には大きいことがわかった。さらに、この立体効果はCHCl分子の入射エネルギーと回転状態、及び、表面温度に敏感である。この研究から非平衡表面トラッピングがSi(10)上でのCHCl分子の解離の初期段階で鍵になる役割を果たしていることがわかった。また、われわれはNO分子のSi(111)表面での反応について現在進行している実験についても報告する。N端からの衝突した方が解離吸着しやすい。
