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molecular beam橋之口 道宏*; 岡田 美智雄*; 吉越 章隆; 寺岡 有殿
no journal, ,
超熱エネルギーのO2分子線を用いてCu(100)、Cu(111)、Cu(110)表面の室温酸化過程を研究してきた。Cu(100)とCu(111)の酸化でCuOが生成する過程は衝突誘起吸収機構であり、Cu(110)では可動Cuアドアトムを含む反応機構であることを提案してきた。それゆえ、Cu(110)でCuOが生成する過程では表面温度が重要な因子になる。そこでCu(110)の酸化過程の温度依存性を放射光光電子分光と分子線を用いて示す。実験はすべてSPring-8のBL23SUの表面反応分析装置で行った。2.2eVの運動エネルギーでは300Kと比べて473Kの方がCu(110)の酸化物生成に効果的であることがわかった。