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口頭

低速ミュオン取り出しのためのミュオンの静電輸送シミュレーション

池本 恵*; 染川 純*; 根木 新太*; 小西 蓮*; 中島 良太*; 奥津 賢一*; 木野 康志*; 山下 琢磨*; 岡田 信二*; 佐藤 元泰*; et al.

no journal, , 

加速器で生成した$$mu^{-}$$をSi薄膜で減速し、静電場で減速・収束してミュオンビームを高品質化する研究を進めている。本研究では、数MeVの$$mu^{-}$$を厚さ0.5mmのSi板に入射し、数keV程度に減速された$$mu^{-}$$を静電的に引き出す実験の数値シミュレーションを荷電粒子軌道ソフトウェア(SIMION)で行った。ミュオンの発射位置が少しずれるだけで、輸送管の終端までの飛行時間や輸送効率が変化することから、ミュオンの輸送過程が初期条件に鋭敏であることが示唆された。

口頭

低速ミュオンの引き出し・収集のための輸送シミュレーション

池本 恵*; 染川 純*; 根木 新太*; 小西 蓮*; 中島 良太*; 奥津 賢一*; 木野 康志*; 山下 琢磨*; 岡田 信二*; 佐藤 元泰*; et al.

no journal, , 

加速器で生成した$$mu^{-}$$を多段の薄膜で減速し、収束してミュオンビームを高品質化する研究を進めている。本研究では、約4MeVの$$mu^{-}$$を厚さ0.5mmのSi薄膜に入射し、数keV程度に減速させた$$mu^{-}$$を静電場で引き出した後に、4層の半休型メッシュ電極によって収束させる実験の数値シミュレーションを行った。輸送中の$$mu^{-}$$の軌道は薄膜で減速後の運動エネルギーに依存しており、10keVで発射された一様分布の$$mu^{-}$$(直径35.2mm)は後段のMg板の上で直径11mm程度に収束するが、15keV以上のエネルギーを持つものは半休型メッシュ電極到着後も収束されるに直線的に運動してMg板に到達することがわかった。メッシュ電極に薄膜を付加することで、さらに集束径を小さく出来ると期待される。この計算に基づいてJ-PARCでの実験を実施している。

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