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論文

Negative effect of crystallization on the mechanism of laser damage in a HfO$$_{2}$$/SiO$$_{2}$$ multilayer

立野 亮*; 岡田 大; 乙部 智仁; 川瀬 啓悟*; Koga, J. K.; 小菅 淳; 永島 圭介; 杉山 僚; 柏木 邦宏*

Journal of Applied Physics, 112(12), p.123103_1 - 123103_3, 2012/12

 被引用回数:3 パーセンタイル:15.25(Physics, Applied)

次世代の極短パルス超高ピーク出力レーザー用の高耐力ミラーを実現するためには、レーザー損傷のメカニズムの解明が不可欠である。本研究では、レーザーミラーの損傷箇所をレーザー顕微鏡により表面観察、透過型電子顕微鏡(断面TEM)により断面観察を行った。損傷したHfO$$_{2}$$には微結晶のHfO$$_{2}$$の粒界が確認できた。これら結果とミラーの耐性評価から、膜内の結晶の形成がミラーの耐性を決める大きな要因であることが明らかになった。

口頭

高耐久性レーザー素子用光学薄膜コーティング

立野 亮; 杉山 僚; 原田 善寿*; 井原 正博*; 柏木 邦宏*

no journal, , 

次世代の極短パルス超高ピーク出力レーザーシステムを実現するには、高強度のレーザー光に対して高い耐力を有するレーザー多層膜ミラーが不可欠である。なぜなら、超短パルス超高ピーク出力レーザーの発振繰り返し周波数が、これまでの数10Hzに対して2桁以上高いkHz級であるために、高光強度による多層膜の劣化と、レーザーミラー多層膜での微小な光吸収による発熱の影響が大きくなるためである。そのため、現状のレーザー多層膜を用いた場合、耐久性が足らず、極端パルスの光強度が長期にわたって安定しないことが問題になっている。本発表では、これら超短パルスレーザーに対するレーザーミラーの損傷メカニズムについて調査し、これらレーザー光源に対して高耐久性を持つレーザー多層膜の開発について発表する。

口頭

Negative effect of crystallization on the mechanism of laser damage in HfO$$_{2}$$/SiO$$_{2}$$ multilayer

立野 亮*; 岡田 大; 小菅 淳; 永島 圭介; 杉山 僚; 柏木 邦宏*

no journal, , 

次世代の極短パルス超高ピーク出力レーザー用の高耐力ミラーを実現するためには、レーザー損傷のメカニズムの解明が不可欠である。本研究では、レーザーミラーの損傷箇所をレーザー顕微鏡により表面観察、透過型電子顕微鏡(断面TEM)により断面観察を行った。損傷したHfO$$_{2}$$には微結晶のHfO$$_{2}$$の粒界が確認できた。これら結果とミラーの耐性評価から、膜内の結晶の形成がミラーの耐性を決める大きな要因であることが明らかになった。

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