Direct writing of conductive aluminum line on aluminum nitride ceramics by transversely excited atmospheric CO laser

石井 克典; 高橋 明*; 住吉 哲実*; 小原 實*

Applied Physics Letters, 71(19), p.2758 - 2760, 1997/11

https://doi.org/10.1063/1.120125

横励起大気圧(TEA)COレーザー書き込みにより、非常に低抵抗なアルミニウムの導体線をアルミニウムの窒化物(AIN)上に形成できることを実証した。電気抵抗の最小値は500mの幅の線で0.1オーム/mmより小さかった。測定された電気抵抗値は電気回路に通常使用されている導体線のものより小さかった。アルミニウムの層のX線光電光分光による深さ方向のプロファイル解析により、形成された金属アルミニウムの層の抵抗値が説明できる。KrFレーザーを使用した実験の結果と比較して、AIN上に抵抵抗な導体線を形成させるためには、TEACOレーザー書き込みが、KrDエキシマレーザー書き込みより効果的な方法であることがわかった。

JT-60用その場コーティング装置

小原 建治郎; 川崎 幸三; 平塚 一; 黒田 猛*; 太田 和也*; 三代 康彦; 大久保 実; 太田 充

JAERI-M 88-117, 77 Pages, 1988/07

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1987年2月に完成したJT-60用その場コーティング装置は、JT-60第1壁上の損耗した炭化チタン膜を、その場、即ちJT-60真空容器内で補修することも主目的とする他、チタンフラッシュ機能、及び観察機能をあわせ持つ。装置は、4軸を有するマニプレータを主体に構成され、高温(~300C)、高真空(~10Pa)下で運転される。真空中で物体を駆動する例は、半導体製造工程や、宇宙用機器にも見られるが、その場装置のように、高温、高真空下で駆動する例は他では見られない。本報告では、装置の概要について述べるとともに、本装置を使用して実施したチタンフラッシュの結果についても簡単に述べる。