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口頭

重イオン照射による傾斜機能材料の創製

大島明博*; 白木文也*; 高澤侑也*; 藤田創*; 吉川妙子*; 巽貴浩*; 坪倉英裕*; 高橋朋宏*; 五輪智子*; 坂上和之*; et al.

no journal, ,

イオン照射時のブラッグピーク付近での化学反応の局所性を利用して、傾斜機能性を有するフッ素系高分子材料の創製を検討した。フッ素系高分子材料にXe $^{54+}$ イオン照射を真空・室温下で行い、ブラッグカーブに沿った傾斜的なラジカル生成を誘起した。照射後、スチレンモノマーをグラフト反応させ、スルホン化処理することで親水基の傾斜的な分布を有する機能性材料の創製を検討した。