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on Cu surfaces盛谷 浩右*; 津田 宗幸*; 寺岡 有殿; 岡田 美智雄*; 吉越 章隆; 福山 哲也*; 笠井 俊夫*; 笠井 秀明*
Journal of Physical Chemistry C, 111(27), p.9961 - 9967, 2007/07
被引用回数：15 パーセンタイル：45.85(Chemistry, Physical)X線光電子分光を用いて0.5eVの超熱酸素分子ビームによる銅(111), (100), (110)表面の酸化反応過程を調べた。分子線のノズル温度を上げると、ノズル温度1000Kまでは酸素の吸着確率が上がるが、1400Kでは吸着確率が下がることがわかった。第一原理計算によりもとめた銅表面上の酸素解離吸着反応の断熱ポテンシャルと合わせて考察すると、このようなノズル温度依存性は、酸素分子の振動励起は酸素分子の解離吸着を促進するが、回転励起が解離吸着を阻害することを示している。
on Cu surfaces盛谷 浩右*; 津田 宗幸*; 寺岡 有殿; 岡田 美智雄*; 吉越 章隆; 福山 哲也*; 笠井 俊夫*; 笠井 秀明*
no journal, ,
Cu(111), Cu(110), Cu(001)表面に酸素分子は解離吸着する。その吸着曲線を超音速酸素分子線と放射光光電子分光を用いて調べた。吸着確率は酸素分子の並進運動エネルギーに依存して大きくなる。ノズル温度を最大1400Kまで加熱して並進運動エネルギーを0.5eVに保ったまま酸素分子の振動・回転運動を励起した。1000K程度までは酸素分子の吸着確率はノズル温度に依存して増加したが、1400Kでは逆に低下した。この現象は、吸着確率は振動励起によって増加するが、回転励起によって現象するためと解釈された。
