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Alimov, V.; Tyburska, B.*; Ogorodnikova, O. V.*; Roth, J.*; 磯部 兼嗣; 山西 敏彦
Journal of Nuclear Materials, 415(Suppl.1), p.S628 - S631, 2011/08
被引用回数:15 パーセンタイル:73.97(Materials Science, Multidisciplinary)真空プラズマスプレイ法にて作製した多孔性タングステンを低エネルギーかつ高フラックス(10 D/ms)の重水素プラズマ及びヘリウム添加した重水素プラズマで照射し、その重水素保持量を昇温脱離法と核反応法を調べた。重水素プラズマで照射したタングステンは、340Kから560Kの温度領域において、重水素濃度は数マイクロメータの深さまで12at.%に達していた。一方、700K以上では10at.%であった。ヘリウムを添加した重水素プラズマで照射した場合は、400から600Kの温度領域では重水素保持量が低下したものの、700K以上ではほぼ同じ値であった。