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Y.S.Sobianto*; 勝村 庸介*; 石榑 健吉*; 久保 純一*; 工藤 久明; 瀬口 忠男
DEI-93-156, p.27 - 34, 1993/12
高分子材料の放射線酸化劣化を解明するため、モデル化合物として、n-C
H
のパラフィンを用いて、放射線酸化を行い、反応機構を解析した。酸化に伴う酸素の消費と分解ガスや酸化生成物を測定分析した。液相の放射線酸化で、酸素の消費量はG値で6.5
0.3と求められた。一方、酸化生成物はカルボン酸で、そのG値は5.60.5となり、酸素の大部分はカルボン酸に転換していることがわかった。