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赤羽 温; 青山 誠; 小川 奏; 辻 公一; 杉山 僚; 張本 鉄雄*; 河仲 準二*; 西岡 一*; 藤田 雅之*; 山川 考一
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高輝度アト秒光量子ビーム生成を目指した低温冷却Yb:YLFチャープパルス増幅(CPA)レーザー励起の高強度数サイクル光パラメトリックチャープパルス増幅(OPCPA)システムの開発を行った。LD励起の低温冷却型Yb:YLF CPAレーザーから出力されるパルス幅可変の広帯域励起光をOPA結晶に入射させることにより、帯域幅400nm以上,パルス幅10fs以下の高強度極短パルスレーザー光の高効率発生が可能になる。これまでにシングルステージでのOPCPA実験を行い、理論予測と一致する200nm以上の超広帯域増幅を実現した。また励起光に発散角をつけることにより400nmまでもの広帯域増幅を確認し、現在マルチステージでの広帯域増幅を目指してシステム構築を進めている。