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関口 哲弘; 馬場 祐治; 関口 広美*; 今村 元泰*; 松林 信行*; 島田 広道*
Applied Surface Science, 169-170(1-4), p.287 - 291, 2001/06
固体表面上の吸着角度に依存した励起分子の化学反応を調べるため、試料表面から放出される脱離イオン断片の収量を種々の放出角度で観測することができる検出器を設計・製作した。実験システムとしては超高真空チャンバー中で、試料の表面清浄化を行うことができるほかに、放射光の水平偏光面内で回転することができる飛行時間質量分析器を備えている。この装置を高エネルギー加速器研究機構・放射光研究施設に持ち込み、Si(100)上のベンゼン多分子層について予備実験を行った。結果としては、あるベンゼン平面内()に遷移モーメントをもつ共鳴内殻励起において表面平面に対して垂直方向10度以内を向いたベンゼン分子が非常に大きなH
イオン脱離(解離)確率を示すことが見いだされた。
寺岡 有殿; 吉越 章隆
Applied Surface Science, 169-170, p.738 - 741, 2001/01
被引用回数:58 パーセンタイル:8.93(Chemistry, Physical)SPring-8に建設された原研軟X線ビームラインBL23SUに設置される表面反応分析装置(エンドステーション)の設計及び基本的な性能について現状を報告する。本装置は主に表面反応分析室、表面構造分析室、ビームモニタ室、超音波分子線発生器から構成される。表面反応分析室では電子エネルギー分析と質量分析の予備実験結果を紹介する。表面構造分析室ではサンプルのクリーニングとその後の表面分析(LEED/AES)について述べる。ビームモニタ室については差動排気の達成度を報告する。超音速分子線発生器ではN及びO
分子線を発生させ、差動排気の達成度や化学組成の質量分析結果を報告する。本報告では以上の基本的な性能が表面反応ダイナミクスの研究に不可欠であることを強調する。
山本 博之; 朝岡 秀人
Applied Surface Science, 169-170, p.305 - 309, 2001/01
被引用回数:28 パーセンタイル:21.22(Chemistry, Physical)クラスターを生成する上では、分子イオン照射は有効な手法であることが我々の現在までの研究により明らかとなっている。本法は特に、レーザーアブレーション等の従来法では生成困難な、多元素からなるクラスターの生成に特に有効と考えられる。本研究ではこの手法を応用し、CH
,C
F
等の分子イオンをSiに照射し、Si-C二元クラスターの生成を試みた。C
H
照射の場合(4keV,1
A/cm
)、生成するクラスターはSiクラスターにC原子が1個付加したSi
C
のものが最も顕著に観測された。また、SiCの化学量論比に相当するSi
C
(n=m)のクラスター強度は他のものに比べて低く、イオン照射によるクラスター生成において化学的安定性が支配的要因とはならないことを明らかにした。