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佐伯 正克; 立川 圓造
Bulletin of the Chemical Society of Japan, 50(7), p.1762 - 1766, 1977/07
被引用回数:1Xe(EC)
I反応で生ずる
Iのメタンとの反応を調べた。CH
Iの生成にはI
、O
あるいはSF
のような電子捕捉剤が重要な役割を果すことが明らかとなった。CH
Iの収率は反応系に添加するXeの濃度に著しく依存し、Xeの濃度の増加に従って減少した。Kr、Ar、N
およびO
などを添加することにより、微量のI
存在下でのCH
Iの収率は、8.7
6.7%がホットアトム反応に、35.8
8.0%が
D
状態の
I
イオンに、31.5I2.0%が
P状態の
I
イオンによって生じていることが分った。この結果を異なった励起過程で生じたI
イオンとメタンの反応について報告されている結果と比較し、CH
Iの生成機構を提案した。
佐伯 正克; 立川 圓造
日本原子力学会誌, 19(5), p.332 - 339, 1977/05
被引用回数:2線量率5.310
~1.9
10
R/hの
線照射下で、
Xeの電子捕獲反応で生ずる
I
イオンとメタンの反応を調べた。線量率の異なる位置で一定時間反応させた場合、見掛けのCH
Iの収率は高線量率下における方が低くなる。しかし照射時間を変えて実験した結果から、
線照射下でのCH
Iの収率は照射線量にのみ依存することが明らかとなった。
Xeが完全に壊変するまで
線照射を続けると、生成物収率は平衡値に達する。外部
線を照射せずに反応を終了させた後、
線照射を行っても6
10
R以上の照射線量で主成物収率はほぼ同じ平衡値に達する。この平衡値は反応系に依存し、O
添加系ではCH
Iが約2%であった。SF
添加系ではCH
Iの他に、メタンの放出線分解生成物とのラジカル反応によりC
H
I等を生ずる。平衡収率はCH
IおよびC
H
I共に約10%であった。