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論文

Fabrication and stability of binary clusters by reactive molecular ion irradiation

山本 博之; 斉藤 健

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B, 206(1-4), p.42 - 46, 2003/05

 被引用回数:13 パーセンタイル:32.66(Instruments & Instrumentation)

分子イオンを固体表面に照射すると1$$mu$$A/cm$$^{2}$$程度の電流密度においても単原子イオンを照射した場合に比べてクラスター生成効率が非常に高くなることが従来までのわれわれの成果により明らかとなっている。本研究においてはこの現象を応用し、C$$_{6}$$F$$_{5}^{+}$$等の分子イオンをSi(100),B等の表面に照射することによりSi$$_{n}$$C$$_{m}$$,B$$_{n}$$C$$_{m}$$等の二成分クラスターの生成に成功した。得られたクラスターの中でも、Si$$_{n}$$C$$_{m}$$についてはいずれの原子数からなるクラスターについてもC原子を2個以上含むものはほとんど観測されなかった。これはC原子が2個以上クラスター内に含まれる場合、その構造が大きく歪むためと考えられる。一方B$$_{n}$$C$$_{m}$$ではこのような傾向は見られずほぼ任意の組成比でクラスターが得られた。以上の結果からクラスター生成において構造の安定性が大きく影響することを明らかにした。

口頭

Creation of fluoropolymer-based nanostructures by swift-heavy-ion irradiation

八巻 徹也

no journal, , 

保有するイオン加速器施設TIARAにおいて、独自の照射技術と長年の研究で得た照射効果に関する知識をもとに、化学的、熱的に安定で加工が難しいフッ素系高分子のナノ構造形成に挑んでいる。高エネルギー、とりわけ数百MeV以上の重イオンビームによる高分子材料の開発では、何と言っても単一イオンの改質能をいかに利用するかが鍵である。本講演では、単一イオンの軌跡(潜在飛跡)を利用したフッ素系高分子ナノ構造体の創製に関する最近の研究成果を(1)化学エッチングによる多孔質体(イオン穿孔膜)、(2)グラフト重合によるプロトン伝導性膜の開発に分けて発表する。

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