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大道 英樹; 萩原 幸; 荒木 邦夫
Makromol.Chem., 180(8), p.1923 - 1933, 1979/00
アイソタクチックポリプロピレンの製造時に副産物として生成するアタクチックポリプロピレン(APP)の有効利用をはかるため、放射線照射によるAPPの改質を試みた。今回の報告は照射APPの構造に及ぼす照射雰囲気の影響について述べたものである。APPに真空中でCo線を照射した場合に生成する気体成分は水素が主でありCからCの低級炭化水素も若干量生成していた。ラジカル生成物としては3級炭素から水素の脱離したアルキルラジカルのみが生成した。886cmの赤外吸収強度の増加からビニリデン基が生成していることを見出した。酸素中照射ではガス状生成物として一酸化炭素、炭酸ガス、水を生じ水素が減少することを見出した。塩素中で照射すると、ガス状生成物はほとんど塩化水素に限定された。また、炭素-塩素結合およびポリエニル基の生成が見られることから、APPの塩素化は塩化水素の脱離を伴うことがわかった。