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論文

Magnetic layer thickness influence on magnetoelastic properties anisotropy in Co$$_{2}$$Fe$$_{0.4}$$Mn$$_{0.6}$$Si heusler alloy thin films

Nabialek, A.*; Chumak, O.*; 関 剛斎*; 高梨 弘毅; Baczewski, L. T.*; Szymczak, H.*

IEEE Transactions on Magnetics, 59(11), p.2501405_1 - 2501405_5, 2023/11

 被引用回数:1 パーセンタイル:28.99(Engineering, Electrical & Electronic)

The anisotropic magnetoelastic (ME) properties of epitaxial Co$$_{2}$$Fe$$_{0.4}$$Mn$$_{0.6}$$Si(CFMS) Heusler alloy thin films with thicknesses ranging from 8 to 100 nm were investigated using the strain-modulated ferromagnetic resonance (SMFMR) technique. The calculation of the first cubic magnetocrystalline (MC) constant ${it K}$ $$_{1}$$ and the two cubic ME constants ${it b}$ $$_{1}$$ and ${it b}$ $$_{2}$$ was carried out assuming the cubic symmetry of the magnetic layer. A significant negative perpendicular MC anisotropy, of the order of 10$$^{5}$$ J/m$$^{3}$$, was also observed. The investigated parameters were found to be dependent on the thickness of the magnetic layer. The thinnest magnetic layers showed the strongest cubic MC anisotropy and the weakest anisotropy of ME properties. These findings highlight the importance of considering the magnetic layer thickness when evaluating the anisotropy in the ME properties of Heusler alloy thin films.

論文

Thermal and mechanical properties of CeO$$_{2}$$

鈴木 紀一; 加藤 正人; 砂押 剛雄*; 宇野 弘樹*; Carvajal-Nunez, U.*; Nelson, A. T.*; McClellan, K. J.*

Journal of the American Ceramic Society, 102(4), p.1994 - 2008, 2019/04

 被引用回数:44 パーセンタイル:91.94(Materials Science, Ceramics)

CeO$$_{2}$$の熱物性及び機械物性を測定した。熱重量分析法により酸素ポテンシャルを測定し、欠陥化学モデルを用いてデータを解析した。音速測定, 共鳴超音波分光法及びナノインデンテーション法によりCeO$$_{2}$$の弾性率を得た。得られた弾性率を用いてデバイ温度及びグリュナイゼン定数を評価するとともに、その評価結果を基に比熱及び熱伝導率を計算した。熱伝導率の計算結果は実験値をよく再現し、また、不純物依存性が大きいことが示された。

論文

Change of molecular motion of polytetrafluoroethylene(PTFE) by radiation induced crosslinking

大島 明博*; 池田 重利*; 瀬口 忠男; 田畑 米穂*

Radiation Physics and Chemistry, 49(5), p.581 - 588, 1997/00

 被引用回数:54 パーセンタイル:95.04(Chemistry, Physical)

放射線架橋ポリテトラフルオロエチレンの分子運動性の変化を動的粘弾性試験により調べた。架橋によりその分子運動は抑制された。特に、室温転移である$$beta$$転移が消滅し、$$gamma$$転移が高温側にシフトした。未架橋のものと比較することにより、その運動性の帰属を明らかにできた。

論文

Radiation deterioration of several aromatic polymers under oxidative conditions

貴家 恒男; 萩原 幸

Polymer, 28(10), p.1915 - 1921, 1987/10

芳香族ポリサルフォン(PES,U-PS)、ポリエステル(U-Polymer)、ポリアミド(A-Film)、ポリエーテル・エーテル・ケトン(PEEK)についての酸化雰囲気での照射効果の検討を行った。空気中・$$gamma$$線線量率10KGY/hで照射した場合、比較的低線量(短期間)で劣化するPES,U-PS,U-Polymerは高線量率の電子線照射の場合とほとんど同じ劣化挙動を示したが、A-Film,PEEKでは高線領域で急激な劣化を起した。これは酸化層の厚さが長時間照射で内部まで拡大するためと結論した。酸素加圧照射の場合はすべてのポリマーは高線量率電子線照射の場合の1/5~1/10の線量で劣化した。ポリマー内部まで放射線酸化が起きたためである。酸素加圧下で照射したPEEKについて、動的粘弾性測定を行った。線量と共にガラス転移温度が低下すること、結晶化に帰因する$$alpha$$'分散ピークは低温に移動しつつ、その強度を増加することから、酸化雰囲気照射では主鎖切断のみで劣化すると結論した。

論文

Electron beam irradiation effects on mechanical relaxation of aromatic polysulphones

貴家 恒男; 早川 直宏; 吉田 健三

Polymer, 28(2), p.236 - 240, 1987/02

 被引用回数:20 パーセンタイル:70.10(Polymer Science)

電子線照射した芳香族系ポリスルホンの動的粘弾性測定を行った。-100$$^{circ}$$C附近の$$gamma$$分散は水分のあるなしによっても影響を受けるが、照射によってさらに大きな変化を受ける。このことは水分が吸着するサイトである-SO$$_{2}$$-部分が崩壊することを意味する。40$$^{circ}$$C附近からガラス転移温度直下の温度域で力学損失が線量と共に大きくなった($$beta$$'分散)。この$$beta$$'分散は水分のあるなしには影響されず、熱処理によって影響を受けた。主鎖切断により生じた切断末端がポリマー鎖のパッキング状態を要化させたために現れた分散と決論した。$$beta$$分散(ガラス転移)温度は線量と共に低温にシフトした。主鎖切断のために分子間力の低下が起きたことを示す。$$gamma$$,$$beta$$',$$beta$$分散挙動の変化から、ポリスルホンは主鎖切断によって劣化し、切断点は-SO$$_{2}$$-部分であると結論した。

論文

Molecular motions of non-crystalline poly(aryl ether-ether-ketone)PEEK and influence of electron beam irradiation

貴家 恒男; 萩原 幸

Polymer, 26, p.501 - 506, 1985/00

 被引用回数:72 パーセンタイル:93.49(Polymer Science)

ポリエーテル・エーテル・ケトンPEEKの分子運動性を動的粘弾性測定により検討した。-100$$^{circ}$$C($$gamma$$)、150$$^{circ}$$C($$beta$$)、180$$^{circ}$$C($$alpha$$′)に力学分散が観測され、$$gamma$$分散は主に主鎖の局所的運動、$$beta$$分散はガラス転移による運動、$$alpha$$′分散は結晶化時の分子鎖の再配列による運動と帰属された。電子線照射によって$$gamma$$分散はほとんど影響を受けなかったが、$$beta$$分散温度は高温に移し、新たに40~100$$^{circ}$$Cにかけて力学損失が大きくなった($$beta$$′分散)。この$$beta$$′分散は照射により生じた切断末端が関与する分散であると結論した。照射量の増大に伴い、$$alpha$$′分散温度は高温に移動しつつその強度が低下した。50MGyの照射によって、$$alpha$$′分散は非常に小さくなった。以上のことより、PEEKは照射により、主鎖切断ばかりではなく架橋等の生成により劣化すると結論した。

論文

全芳香族ポリマーの放射線照射効果,2; 酸化雰囲気での照射効果

貴家 恒男; 萩原 幸

EIM-84-132, p.37 - 46, 1984/00

ポリイミド,ポリ(エーテル・エーテル・ケトン)PEEKなど11種類の芳香族系ポリマーを酸素圧0.7MPa下で5$$times$$10$$^{3}$$Gy/mの線量率の$$gamma$$線を照射し、酸化雰囲気下での劣化挙動を主として引張り試験により検討した。芳香族系ポリマーも酸化雰囲気では劣化が促進され、真空中照射に擬せられる電子線照射の場合と較べて約1桁低い線量で劣化することがわかった。しかし放射線に対するポリマーを構成するユニットの安定性の序列は電子線の場合とは変らなかった。PEEKについての粘弾性測定から酸化雰囲気では架橋は起らず、もっぱら主鎖切断で劣化が起ることが実験的に確かめられた。また、構造の異なるポリイミドの耐放射線性の相互比較からも、電子線照射の場合は主鎖切断と同時に架橋も起るが、酸化雰囲気下では架橋は起らないことが示唆された。

論文

全芳香族系ポリマーの放射線照射効果,I; 空気中電子線照射

貴家 恒男; 早川 直宏; 吉田 健三; 萩原 幸

EIM-83-130, p.37 - 46, 1983/00

主鎖が芳香環で構成されている9種類の全芳香族系ポリマーを最大12000Mradまで電子線照射し、引張り特性の変化を指標として耐放射線性の評価を行った。放射線劣化は伸びの低下に最も良く反映され、線量と共に低下した。線量と伸びの低下の関係および化学構造を対比させることにより、芳香環を結び合せている結合様式の耐放射線性のおおよその序列が明らかとなった。すなわち、イミド$$>$$エーテル$$>$$、ケトン$$>$$アミド$$>$$ビスフェノールA$$>$$スルホンである。また比較的低線量で劣化するU-polymers Udel-polysulfone(U-ps)について照射後の動的粘弾性測定を行なった。その結果、劣化は主として主鎖切断により起ること、U-PSではスルホン基部分で主鎖切断が起ることが明らかになった。

論文

Fixation of photoelastic fringe patterns by gamma-rays; Effects of curing reagent and radiation dose on optical and mechanical properties of epoxy resin

宮園 昭八郎

Journal of Nuclear Science and Technology, 5(11), p.579 - 589, 1968/00

 被引用回数:1

抄録なし

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