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論文

Modeling of high homologous temperature deformation behavior using the viscoplasticity theory based on overstress (VBO): Part III-A simplified model

橘 幸男; E.Krempl*

J. Eng. Mater. Technol., 120(3), p.193 - 196, 1998/07

 被引用回数:16 パーセンタイル:60.73(Engineering, Mechanical)

前々報(1995年掲載)では、過応力(overstress)に基づく粘塑性理論(VBO)を950$$^{circ}$$C程度の高温下でのAlloy 800Hの変形挙動をモデル化できるように拡張した。前報(1997掲載)では、前々報で拡張したモデルを用いて、極端な条件、例えば、非常に長時間のクリープ、応力緩和挙動等の解析を行い、妥当な結果が得られることを示した。本報告では、従来、VBOの3次元モデルでは、19の材料定数を決定する必要があったのに対し、11の材料定数に簡略化したモデルを適用した場合においても、Alloy 800Hの950$$^{circ}$$C程度の高温下でのさまざまな変形挙動を前々報、全報と同程度の精度で表現できることを示した。

論文

Modeling of high homologous temperature deformation behavior using the viscoplasticity theory based on overstress (VBO), Part I; Creep and tensile behavior

橘 幸男; E.Krempl*

Trans. ASME, Ser. H, 117, p.456 - 461, 1995/10

超過応力に基づく粘塑性理論(VBO)は降伏曲面及び除荷、負荷の条件を必要としない内部状態変数理論であり2つのテンソル内部状態変数、すなわち、平衡応力と移動応力を持つ。本論文では、高相対温度下での材料挙動を記述できる、VBOに基づくモデルを提案している。高相対温度下の材料挙動にVBOを適用する際には、拡散の影響を考慮するために、内部状態変数の発展式に回復項を導入する必要がある。本モデルでは平衡応力の発展式に回復項を加えており、さらに等方応力と呼ばれるスカラ内部状態変数の軟化を表現することで、遷移クリープ、定常クリープのみでなく、加速クリープをも再現できるようにしている。また、アロイ800Hのクリープ試験及び引張試験データに提案したモデルを適用し、これらのデータを精度よくシミュレートできることを示している。

論文

Restoration phenomena of Ti-Ni shape memory alloys in a neutron irradiation environment

星屋 泰二; 島川 聡司; 市橋 芳徳; 西川 雅弘*

Journal of Nuclear Materials, 191-194, p.1070 - 1074, 1992/00

 被引用回数:10 パーセンタイル:66.89(Materials Science, Multidisciplinary)

TiNi形状記憶合金の形状記憶特性を利用した原子力関連機器分野への応用開発が進められているが、形状記憶合金に及ぼす中性子照射の影響については明らかではない。照射環境下におけるTiNi形状記憶合金の使用条件を見出すため、3種類のTiNi形状記憶合金を様々な中性子フルエンス条件下で照射し、照射後等温・等時焼鈍後の電気抵抗測定を実施して、変態特性を調べた。さらに照射後の変形挙動を明らかにするために低温引張試験を行った。照射温度が520Kの場合、損傷量にかかわらずM$$_{s}$$温度の変化は小さく、未照射材のM$$_{s}$$温度に殆ど一致した。また323Kで照射すると、M$$_{s}$$温度は急激に低下したが照射後に523Kで焼鈍すると、照射前の変態温度に回復した。この回復温度は極めて低いHomologous温度(T/Tm;Tm融点)0.33に相当する。これら形状記憶合金特有の照射効果は照射下の規則-不規則変態に関する検討結果によって説明出来る。

論文

Restoration phenomena of neutron-irradiated Ti-Ni shape memory alloys

星屋 泰二; 高田 文樹; 市橋 芳徳; H.R.Pak*

Mater. Sci. Eng., A, 130, p.185 - 191, 1990/00

TiNi形状記憶合金の形状記憶特性を利用した原子力関連機器分野への応用開発が進められている。照射環境下におけるTiNi形状記憶合金の使用条件を見出すため、3種類のTiNi形状記憶合金を様々な中性子フルエンス条件下で照射して、照射後等温・等時焼鈍後の電気抵抗測定を実施した。523Kで焼鈍すると、照射材の電気抵抗温度依存性は、未照射材のそれと殆ど同じになる。この温度は極めて低いHomologous温度(T/T$$_{m}$$;T$$_{m}$$融点)0.33に相当する。これら照射材から得られた結果を照射によって生成される損傷と照射後焼鈍によって起こる構造変化の観点から説明した。

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