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-Qc supermirror by ion polishing曽山 和彦; 角田 治彦*; 村上 勝彦*
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A, 529(1-3), p.73 - 77, 2004/08
被引用回数：6 パーセンタイル：40.15(Instruments & Instrumentation)イオンポリッシュ法をNi/Ti多層膜スーパーミラーに適用し、高反射率化に成功した。実験は、イオンポリッシュ条件として、Ar
イオンの照射時間,加速電圧,イオン入射角度を最適化した。これに基づき、3Qcスーパーミラー(407層)についてNi層のみにイオンポリッシュ法を適用したところ、臨界角での中性子反射率を80%から90%に増加させることができた。
曽山 和彦; 村上 勝彦*
JAERI-Conf 2001-002, p.551 - 556, 2001/03
極短周期(周期長26
30
)のNi/Ti及びNi/Mn多層膜の各界面にアルゴンイオンビームを照射し、600層の全膜層にわたって界面粗さを34 rmsに低減することに初めて成功した。本手法はイオンビームスパッタリング法によって成膜した多層膜の各膜ごとに、入射角10度、照射時間69秒(Niの場合)、加速電圧100Vの最適化した条件で照射することにより、表面層の結合力の弱い原子のみを弾き飛ばし、界面粗さを低減するものである。これによって、従来、7程度であった界面粗さを約3Å程度に減少させることができ、中性子多層膜ミラーの中性子反射性能を飛躍的に向上させることができた。本手法で作成した多層膜ミラーは、高性能スーパーミラー及びモノクロメータとして用いられるだけでなく、高強度マイクロビーム集束装置、ドップラーシターに応用した超冷中性子発生装置など、さまざまな応用の可能性を有している。
亀尾 裕; 青木 和宏; 大内 洋*; 五来 健夫; 平林 孝圀
Proc. of Waste Management'98 (CD-ROM), 8 Pages, 1998/00
原子炉施設の廃止措置において、コンクリートや機器配管等に対して除染を実施することは、解体作業効率の向上、作業者の被曝及び廃棄物発生量を低減する上で非常に重要である。将来の商用発電炉の廃止措置に向け、二次廃棄物発生量が極めて少なくかつ効率の良い4種の除染技術の開発を進めており、この中から、流動研磨除染と原位置電解除染について報告する。流動研磨除染は、研磨剤を混合した空気旋回流により配管内部を機械的に研磨し除染するものであり、従来の湿式の流動研磨に比較し大口径配管に適用が可能、乾式であるため除染廃液が発生しない等の特徴がある。原位置電解除染は、電解研磨を解体前の配管内部に適用する技術であり、部分除染が可能、従来の湿式除染に比較し廃液の発生量が極めて少ない等の特徴がある。
蓼沼 克嘉*; 河村 弘; 石塚 悦男; 坂本 直樹*; 中田 宏勝
JAERI-M 90-037, 33 Pages, 1990/03
核融合炉において中性子増倍材としてベリリウムを用いる場合、ベリリウム中のトリチウム挙動を把握することは重要なことである。そこで、ベリリウム中のトリチウム分布を測定する方法として、電解研磨法を検討した。本法は、電解によってベリリウムを研磨し、それに伴って溶出してくるトリチウムを測定する方法である。まず予備実験として電解研磨の種類、電解電圧と電流密度の関係、電解時の電極間距離、研磨液の温度や攪拌の影響、電流密度と研磨厚さの関係について検討を行なった。次に、最適電解研磨条件すなわち電解電圧と電流(密度)の関係を求めた。そしてその条件における電解電気量(クーロン量)と研磨量(研磨厚さ)あるいは、発生水素ガス量との関係、発生水素ガスの酸化処理による回収性、更に研磨液中のトリチウム分析に関する検討を行なった。以上の検討の結果、ベリリウムの電解研磨特性を把握することができ、本法によるベリリウム分布測定についての見通しが得られた。
