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瀬口 忠男; 早川 直宏; 田村 直幸
Reports on Progress in Polymer Physics in Japan, 18, p.493 - 496, 1975/00
室温でポリテトラフルオルエチレン(PTFE)に放射線照射して捕捉されるラジカルはフルオルアルキルラジカルでPTFEの結晶領域に捕捉されている。これに酸素を反応させると19C以上では完全に反応してパーオキシラジカルになるが19
C以下ではPTFEのモルフォロジーによってパーオキシラジカルに変る割合が異ってくる。焼成したPTFEは結晶化度が低いがこれに照射すると、線量の増加とともに非晶部が結晶に移り、この新しく生成した結晶域にもラジカルが捕捉されるようになる。このような試料では酸素と反応する温度域が3個所に分かれ(-78
C以下,-60
C~-40
C,0
C~20
C)、それぞれがPTFEの結晶状態すなわち分子運動の異なる結晶状態に対応している。酸化の反応によるESRの研究から、被照射PTFEの形態、および運動について考察した。