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論文

Electron beam-induced fries rearrangement of sulfonamide and sulfonate crystals

加藤 順*; 前川 康成; 吉田 勝

Chemistry Letters, 34(2), p.266 - 267, 2005/02

 被引用回数:12 パーセンタイル:55.21(Chemistry, Multidisciplinary)

電子線を利用した有機機能性材料創製の一環として、結晶状態のスルホンアミド及びスルホン酸エステル結晶の電子線反応について検討を行った。われわれは、スルホン誘導体が、対応するカルボニル化合物よりも高い電子線反応性を有し、Fries転位反応性生物を与えることを見いだした。この反応は、無溶媒でエステル結合を極性の高いフェノールやアニリン構造に変換する有効な方法である。さらに、スルホンアミドの電子線反応によるアニリン誘導体の生成は、酸性物質が塩基性物質に化学変換される非常に興味深い反応である。したがって、これらの電子線により引き起こされる化学変換は、電子線リソグラフィーやナノレベルでの構造制御のための新しい材料設計への展開が期待できる。

論文

Electron-beam induced reactions of sulfonium salts in a crystalline state

榎本 一之*; 前川 康成; Moon, S.; 下山 純治*; 後藤 一幸*; 成田 正*; 吉田 勝

Journal of Photopolymer Science and Technology, 17(1), p.41 - 44, 2004/06

 被引用回数:2 パーセンタイル:90.25(Polymer Science)

酸発生剤であるトリフェニルスルホニウム塩(1)結晶に電子線照射すると、光反応とは異なり、1にフェニル基が置換したビフェニル置換スルホニウム塩(2)を中間体として与える。ビフェニル体2の反応率は1の3.7倍と、電子線レジスト薄膜としての高感度化が示唆された。本論文では、スルホニウム塩結晶の電子線反応性や選択性に及ぼすカチオン部位と対アニオンの効果を調べ、電子線に対して感受性の高い酸発生剤の設計指針を得ることを目的とする。スルホニウム塩のカチオン部位にビフェニル及びジフェニルスルフィドを導入した2p, phSを別途合成し、電子線反応を行った。その結果、2p及びphSの分解速度は一次速度式で最適化でき、速度定数($$times$$10$$^{4}$$s$$^{-1}$$)は1で3.7、2pで14、phSで21であった。放射線感度の指標となるイオン化ポテンシャル(Ip)は、ベンゼンで9.24、ビフェニルで8.16、ジフェニルスルフィドで7.85である。このことから、より低いIpを有する置換基をカチオン部位に導入することで、スルホニウム塩の分解速度が増加することがわかった。また、芳香族系対アニオンを有するスルホニウム塩は、非晶化前後で速度定数が2倍増加し、脂肪族系よりも高感度を示した。

報告書

頭部モデルファントムの製作及びその脳表面熱中性子束分布測定(協力研究)

山本 和喜; 熊田 博明; 岸 敏明; 鳥居 義也; 遠藤 聖*; 山本 哲哉*; 松村 明*; 内山 順三; 能勢 忠男*

JAERI-Tech 2002-092, 23 Pages, 2002/12

JAERI-Tech-2002-092.pdf:5.22MB

現在の医療照射では金線によって熱中性子束を測定し線量を決定しているため、測定ポイントに限りがあり、照射後に任意の場所の線量評価を行うことができない。これらを補うために線量評価システム等による計算シミュレーションによって線量評価が行われている。本研究では実験による線量評価方法として、人の頭部に忠実な実体ファントムの製作、及び、実際の医療照射時のデータに基づいた照射実験を実施した。実験による線量評価手法の確立には人の頭部に忠実な実体ファントムの製作が重要であり、その製作には光造形技術(Rapid Prototyping Technique)を用いた。さらに、医療照射時の照射条件を模擬して、評価上重要である脳表面の熱中性子束分布を実体ファントムを用いて詳細に測定を行った。この実体ファントムによる実験的詳細評価手法は臨床照射条件にかなり近くすることができ、内部線量の直接測定はもちろんのこと、ファントムに細胞を入れることにより生物学的効果の測定にも利用できる。

論文

Comparison of dosimetry by the realistic patient head phantom and by the patient's brain, and the JCDS calculation; A Clinical dosimetry study

遠藤 聖*; 松村 明*; 山本 哲哉*; 能勢 忠男*; 山本 和喜; 熊田 博明; 岸 敏明; 鳥居 義也; 樫村 隆則*; 大竹 真一*

Research and Development in Neutron Capture Therapy, p.425 - 430, 2002/09

光造形技術を用いて、患者頭部の造形モデルとして写実的なファントムを製作した。この実体ファントムは将来的に線量計画システムの検証に寄与するものである。しかし、外科手術後の脳及び熱中性子遮へい材のモデル化に含まれる困難性のため、線量評価システム(JCDS:JAERI Computational Dosimetry System)を用いた計算,実体ファントム及びin vivo測定(医療照射)との間では十分な一致が見られなかった。幾つか課題があるものの、実体ファントムを用いた実験的シミュレーション技術は、術中BNCTに対してより確実な線量計画のための有効なツールである。

報告書

半導体微細加工への機能性有機薄膜の応用に関する研究

小川 一文*

JAERI-M 88-248, 177 Pages, 1988/12

JAERI-M-88-248.pdf:5.13MB

本報告は、0.5$$mu$$m以下のデバイス製造における超微細加工技術開発の基礎研究として、(1)露光装置、(2)レジスト使用技術(すなわちレジストプロセス)および(3)レジスト材料について行った研究成果をまとめたものである。露光装置では、実用レベルで最も可能性が高いと言われている理論解像度0.3$$mu$$mのKrFエキシマレーザを用いたステッパー(エキシマレーザステッパー)を試作した。レジストプロセス技術では、光を用いた露光装置でパターンコントラスト向上効果や焦点深度向上効果がある水溶液CEL(Contrast Enhanced Lithography)プロセス技術の開発を行った。さらに、レジスト材料では、分子レベルで均一な膜形成が可能な累積膜(Langmuir-Blodgett(LB)膜)に着目し、半導体デバイス製造におけるレジストへの応用の可能性を検討すると共に、これら機能性有機薄膜の放射線による反応過程を明らかにした。

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