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Kano, Keisuke*; Saruya, Ryota*; Kawabata, Shunsuke*; Araki, Jun*; Noguchi, Katsuya*; Kada, Wataru*; Miura, Kenta*; Kato, Hijiri*; Sato, Takahiro; Koka, Masashi; et al.
no journal, ,
関根 由莉奈; 南川 卓也; 諸橋 裕子
not registered
JP, 2019-186649 
Patent licensing information
【課題】極めて低コストかつ短時間に、汎用性の高いマイクロ流路デバイスを製造する方法を提供すること。 【解決手段】マイクロ流路デバイスの製造方法は、基板1、粘着層2、及びカッティング層3が順次積層された多層の構造体に対し、カッティング層3の側からレーザー光線10を照射し、カッティング層3、またはカッティング層3と粘着層2にマイクロ流路パターンを形成する工程と、その後、形成されたマイクロ流路パターンを剥離させる工程、を含むことを特徴とする。