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滝沢 真之
JAERI-Research 98-019, 181 Pages, 1998/03
磁場閉じ込め型核融合炉のプラズマ真空容器周辺部におけるスクレイプオフプラズマと炉壁の相互作用(PWI)の中では、水素が炉壁を拡散、透過して裏面側に放出される事象は、トリチウム漏洩の観点から特に重要な研究課題である。本研究は、水素がイオン化あるいは原子化されると透過流量が飛躍的に増大する現象(PDP)を多角的な視点から調べるため、水素原子・イオン、及び電子が混在する低温プラズマ環境下において、数種類の金属材料の試料膜を使用した水素透過実験を実施した。またプラズマから膜への水素入射量の評価を数値解析により行った。そして低温プラズマが駆動する水素透過現象の機構を明らかにし、モデルの形に整理した。さらに本研究でまとめたPDPモデルを基に水素透過ポンプシステムのシミュレーションを行い当該システムの模擬評価に適用できることを示した。
滝沢 真之; 木内 清; 石塚 秀俊*; 岡本 眞實*; 藤井 靖彦*
Fusion Engineering and Design, 39-40, p.923 - 928, 1998/00
被引用回数:0 パーセンタイル:0.00(Nuclear Science & Technology)同様な表面状態に前処理された厚さ20
m,50
m,及び200
mのニッケル薄膜を使用して、水素透過実験を実施した。ECR加熱により水素プラズマを生成し、523Kに保ったニッケル薄膜に対するプラズマ誘起透過現象(PDP)を調べた。上流側および下流側表面の再結合係数については、ガス圧による透過(GDP)実験データにより評価した。下流測表面再結合係数が最大となる条件における上流側及び下流側表面結合係数はそれぞれ3.4
10
m
/sec,2.9
10
m
/secであった。上流側表面再結合係数をパラメータとして変化させることで透過量及び透過確率を評価した。1.33Paの低エネルギー(~eV)トリチウムプラズマにおいて、上流側表面再結合係数を2桁低下させるように前処理した523K,10
mのニッケル薄膜では、入射流量に対する透過流量の比を示す透過確率が約20%となるトリチウム透過(約2Ci/m
secに相当)が期待される。
滝沢 真之; 木内 清; 石塚 秀俊*; 岡本 眞實*; 藤井 靖彦*
Journal of Nuclear Materials, 258-263, p.1066 - 1072, 1998/00
被引用回数:0 パーセンタイル:0.00(Materials Science, Multidisciplinary)原子・イオン状態の水素が金属を容易に透過するPDP現象は、核融合炉を開発する上でトリチウム漏えいの観点から重要な問題である。PWIの研究に際して考慮する必要のあるスクレイプオフ層のプラズマでは、低エネルギーの原子、イオン、さらには電子が存在するため、これら粒子を同時に取り扱うことの可能なECR放電プラズマ発生装置を使用してPDP実験を行っているが、プラズマ放電による透過実験では入射流量の把握は難しい。本研究ではプラズマ中の原子及びイオン状態の水素密度を計算により求め、入射がプラズマ中の水素原子・イオンの相互拡散及び両極性拡散により生じると仮定して、流量の評価を行った。ここでは密度計算に必要な電子温度、電子密度、プラズマ電位の他、Hのスペクトルを測定し、透過流量から別途求めた入射流量と、計算により求めた原子、イオン密度との関係を評価した。
長崎 正雅; 山田 禮司*; 西堂 雅博; 勝田 博司
J. Nucl. Mater., 151, p.189 - 201, 1988/00
被引用回数:33 パーセンタイル:92.41(Materials Science, Multidisciplinary)重水素イオン照射下での、ニッケル中の重水素の透過速度を、温度(100~1000
C)、入射イオンフラックス(0.2~1.1
10
D-atoms cm
S
)、入射イオンエネルギー(1~2.5keV/D-atom)、雰囲気重水素圧の関数として測定した。一方、雰囲気水素の効果を考慮に入れた簡単なモデルを開発し、これに基づいて実験結果を解析した。その結果、重水素の入射側表面からの再放出を律速する過程が、400
C以上では表面再結合、300
C以下ではバルク拡散であることがわかった。また、透過速度から、入射側表面における重水素の再結合定数を求めた。透過スパイクに対する熱処理の効果についても調べた。
山田 孝行; 笹嶋 洋二; 八木 秀之
JAERI-M 83-207, 125 Pages, 1983/12
PDP-11系の端末計算機システムに適用する二種類のオンライン制御システム・プログラムを開発した。各々独立した二種のシステム・プログラムは、ハードウェア構成の異る二種類の端末システムに対応して作成した。TSS用システム・プログラムは、I/O構成の簡単なシステムに適用し、RJE用システム・プログラムは、磁気テープ、ラインプリンタ等の高級なI/O装置を装備した端末システムに適用する。TSS用システム・プログラムは、TSSセッションの中で、擬似的に一括入出力の機能を与えることができる。RJE用システム・プログラムでは、RJEセッションの他にTSSセッションも開設することができる。本報告では、両端末システムのハードウェア構成、システム・プログラムについて詳述すると共に、利用者の手引きとして使える様に、両端末システムの操作方法についても詳しく説明した。システム・プログラムの作成に当って必要な資料を附録として集録した。
菊池 士郎; 冨田 芳明; 河原崎 雄紀; 大内 勲; 竹内 末広; 丸山 倫夫
JAERI-M 9136, 28 Pages, 1980/10
原研の20MVタンデム加速器の設置にともなって導入されたデータ収集・処理計算機システムのうち、データ収集系の部分についてのべたものである。システムのハードウェアおよびソフトウェアの構成についてのべ、全体としてどのような機能をもつかについてややくわしく説明した。
八木 秀之; 竹内 紀男; 五藤 博
JAERI-M 6719, 87 Pages, 1976/09
ORTEC社製GAMMA-IIIシステムを用いて、放射線測定および核物質非破壊測定を行うために必要な会活型言語ORACLによるプログラム79編を収録した。内容は、ディスク・コア・MCA・磁気テープ相互間のデータの転送、ディスク内データの編集、ピーク面積計算、平均値・標準偏差の計算、ガンマ線データ・ファイルの検索、会計データの処理、暦日の計算、その他である。また、ORACLをメタ言語とするマイクロコンピュータ開発用のサポート・システムも収録した。ORACL内蔵の関数類の使用法も総覧し、使用の便をはかった。