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論文

Oxidation of aqueous HF-treated Si(001) surface induced by translational kinetic energy of O$$_{2}$$ at room temperature

吉越 章隆; 寺岡 有殿

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1, 42(9A), p.5749 - 5750, 2003/09

 被引用回数:2 パーセンタイル:10.32(Physics, Applied)

O$$_{2}$$の並進運動エネルギーによって誘起されるHF溶液によって処理したSi(001)表面の室温酸化を放射光光電子分光法と超音速分子線技術によって調べた。室温において、0.04eVの並進運動エネルギーでは、酸化は進まないことが分かった。一方、3.0eVの並進運動エネルギーの場合は、Si$$^{1+}$$, Si$$^{2+}$$及びSi$$^{3+}$$ を含む最大Si$$^{4+}$$まで酸化が進むことが明らかとなった。最終的な酸化膜厚が0.26nmであることから、最表面のSi原子が酸化していることが明らかとなった。

論文

Emulsifier-free emulsion polymerization of tetrafluoroethy-lene by radiation, 3; Simultaneous formation of hydrofluoric acid

諏訪 武; 渡辺 光崇; 岡本 次郎; 町 末男

Journal of Polymer Science; Polymer Chemistry Edition, 17(1), p.129 - 138, 1979/00

この反応系において、重合と同時にフッ酸(HF)が生成する。HFの生成速度は、反応初期において、TFEモノマーの圧力および線量率が高いほど大きく、また重合によってモノマーが消費されるにつれて低下する。このことから、HFの生成は照射下におけるTFEと水との反応によるものが主で、重合中生成したポリマーの崩壊によるものは小さい。また酸素添加量に比例してHFの生成量は増加する。HFの生成がTFEと水の放射線分解によるprimary radiculs(H°,OH°,Eaq$$^{-}$$)との反応によってのみ生ずると仮定すると、HF生成のG値、G(HF)$$_{c}$$alcは11.25となる。一方実測値から求めたG(HF)$$_{e}$$xpは、線量率が1.4$$times$$10$$^{4}$$rad/hr以上、圧力20kg/cm$$^{2}$$の場合計算値より1桁大きな値を示した。このことからHFの生成はモノマーのC-F結合の切断によるF°と水との反応による寄与のほうが水からのH°、OH°およびEaq$$^{-}$$による寄与より大きいことを明らかにした。

口頭

アミン窒素を含む抽出剤を用いるイオン対抽出による白金族元素、Zr, Hf, Nb, Taの溶媒抽出

佐々木 祐二; 松宮 正彦*; 金子 政志; 熊谷 友多

no journal, , 

アミン窒素を含む抽出剤のプロトン化を利用して、水溶液中でアニオン種となる金属イオンの溶媒抽出が可能である。しかし、そのイオン対抽出法を用いる系統的な研究は少なく、抽出挙動に関して不明な点が多い。そこで、いくつか対象となりえる金属イオンを用いて、異なる水相や有機相の条件で実験を試みた。本イオン対抽出法により、Pd, Zr, Hf, Nb, Taの分配比は100を超え、また抽出困難とされるRu, Rh, Nb, Ta等の金属イオンの抽出を可能とした。

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