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二ツ木 高志*; 田嶋 義宣*; 阿部 哲也; 丹澤 貞光
no journal, ,
われわれは、半導体工場からのPFCガス排出削減のために、連続ガスクロマトグラフィ法による回収技術を開発した。これまでPFC回収技術として深冷蒸留法が提案されてきたが、巨大な分離塔が必要で冷却エネルギーも膨大であるなどの問題を抱えていた。これに対して連続ガスクロマトグラフィはコンパクトで安価かつ省エネ技術で、数本のクロマト分離カラムと真空ポンプと自動弁で構成される。混合ガスをクロマト分離カラムに流すと、各ガスとカラム充填剤の親和力の差がカラム通過速度の差となりガス分離が達成される。完全に分離できたガスは系外に取り出し、分離が不完全なガス混合体は次のカラムで再度分離される。このように混合PFCガスを系内でリサイクルすることにより、すべての混合ガスを連続的に完全分離することが可能となる。連続ガスクロマトグラフィ大型パイロットプラントによる実験では、例えばCF/CF分離について99%以上の回収率と相互コンタミ0.01%以下の純度を達成した。