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宮本 賢治*; 奥田 晋*; 畑山 明聖*; 花田 磨砂也; 小島 有志
AIP Conference Proceedings 1515, p.22 - 30, 2013/02
被引用回数：10 パーセンタイル：94.9(Physics, Applied)負イオンビーム光学を数値的に解析するため、統合2次元PICコードを開発している。このコードの特徴は、ソースプラズマから加速器までの全ての領域を含み計算することである。つまり、最初にプラズマメニスカスの形状を仮定することなく、負イオンの軌道を自己矛盾無く追跡することができる。今回、メニスカスの端部から引出された表面生成負イオンがビームハロの一因であることが分かった。これらの負イオンはメニスカスの曲率により過収束されるが、引出部の静電レンズでは修正されず、結果としてハロを形成する機構が示唆された。
奥田 晋*; 宮本 賢治*; 福山 俊茂*; 西岡 宗*; 畑山 明聖*; 深野 あづさ*; 花田 磨砂也; 小島 有志
AIP Conference Proceedings 1515, p.107 - 113, 2013/02
被引用回数：9 パーセンタイル：94(Physics, Applied)負イオン源中のプラズマ-ビーム境界であるメニスカスは、負イオンビーム光学に大きく影響することは明らかである。近年、メニスカスの形状によるビームハロが発生することが示唆されている。これは、曲率の大きい負イオン放出面によるものと考えられている。そこで、このプラズマメニスカスの形状とビームハロに対する負イオン生成率の関係をPICコードを用いて調べた。その結果、プラズマメニスカスは負イオンの量で形が決まるため、ビームハロ形成は表面生成された負イオンの量に強く依存することが分かった。
宮本 賢治*; 奥田 晋*; 畑山 明聖*; 花田 磨砂也; 小島 有志
Applied Physics Letters, 102(2), p.023512_1 - 023512_4, 2013/01
被引用回数：25 パーセンタイル：68.99(Physics, Applied)負イオンビーム中にハロ成分が形成される物理機構の解明のため、表面生成で生成された負イオン軌道を計算する2次元PICコードを開発している。結果として、実際の負イオンビームにて観測されているハロ成分を再現することができた。このハロ成分はプラズマメニスカスの周辺部で曲率の大きい場所から引き出された負イオンが引き出し領域で過収束されるため発生することが示唆された。
ions by using two-dimensional particle-in-cell method宮本 賢治*; 奥田 晋*; 畑山 明聖*; 花田 磨砂也
Review of Scientific Instruments, 83(2), p.02A723_1 - 02A723_4, 2012/02
被引用回数：8 パーセンタイル：37.67(Instruments & Instrumentation)2次元PICシミュレーションを利用して負イオン源のモデリングと数値解析が進められており、今回プラズマ電極上に水素負イオンを発生させた場合の効果について調べた。自己矛盾のないPIC計算を行い、タイムステップあたりの負イオン発生量を増加させることにより負イオン電流密度を増加させると、負イオンと共に引出される電子電流が減少し、実際の負イオン源で発生している現象を再現することができた。さらに、プラズマ電極表面での準中性化は水素の正イオンと負イオンにより保たれていることが分かった。
