Surface modification of polymeric materials by pulsed ion beam irradiation

パルス状イオンビーム照射による高分子材料の表面改質

M.Celina*; 工藤久明; T.J.Renk*; K.T.Gillen*; R.L.Clough*

M.Celina*; Kudo, Hisaaki; T.J.Renk*; K.T.Gillen*; R.L.Clough*

ポリメタクリル酸メチル及びポリイミドを、高強度パルス状イオンビーム源で発生させた500keVの炭素イオン及び水素イオンに照射した。パルス幅500nsecのパルス中に発生された500keVのイオンビームの材料中での飛程は数ミクロンで、エネルギー付与は0.1~5J/cm $^{2}$ 、パルス中の平均線量率は約10 $^{12}$ Gy/secである。温度上昇と放射線分解によるガス発生から表面には形態変化が起き、ミクロンサイズの空孔や繊維状構造が生成していた。高分子のパルスイオン照射が高分子材料表面の物理的修飾に有効であることが示された。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Radiation Physics and Chemistry
巻	:	51
号	:	2
ページ数	:	p.191 - 194
発行年月	:	1998/00
発表会議名	:
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キーワード	:	高分子; 表面改質; イオンビーム; パルス; ガス発生; 温度上昇

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1016/S0969-806X(97)00107-2
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登録番号 : A19980076
抄録集掲載番号 : 260482
論文投稿番号 : 15507

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