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論文

Surface modification of polymeric materials by pulsed ion beam irradiation

M.Celina*; 工藤久明; T.J.Renk*; K.T.Gillen*; R.L.Clough*

Radiation Physics and Chemistry, 51(2), p.191 - 194, 1998/00

https://doi.org/10.1016/S0969-806X(97)00107-2

ポリメタクリル酸メチル及びポリイミドを、高強度パルス状イオンビーム源で発生させた500keVの炭素イオン及び水素イオンに照射した。パルス幅500nsecのパルス中に発生された500keVのイオンビームの材料中での飛程は数ミクロンで、エネルギー付与は0.1~5J/cm $^{2}$ 、パルス中の平均線量率は約10 $^{12}$ Gy/secである。温度上昇と放射線分解によるガス発生から表面には形態変化が起き、ミクロンサイズの空孔や繊維状構造が生成していた。高分子のパルスイオン照射が高分子材料表面の物理的修飾に有効であることが示された。