• help
  • PC | SP
  • JP | EN
          
検索対象：     
報告書番号：
※ 半角英数字
 年 ～ 
 年
全てクリア
前の画面に戻る

ヘテロ原子ドーピングしたグラファイトのチオフェン吸着

Thiophene adsorption on graphite doped with hetero atoms

下山 巖   ; 馬場 祐治  ; 関口 哲弘  ; 平尾 法恵*

Shimoyama, Iwao; Baba, Yuji; Sekiguchi, Tetsuhiro; Hirao, Norie*

$$pi$$共役系炭素はヘテロ原子をドーピングすることによって触媒機能を持つことが報告され注目を集めているが、ドーピングにより発現する機能性については未解明の領域が多い。そこでわれわれは脱硫に関するドーピング効果に注目した。活性炭を用いた脱硫はこれまでも精力的に研究されているが、ヘテロ原子ドーピング効果は十分調べられていない。チオフェン類は石油系燃料の主な難脱硫化合物の一つであり、本研究では$$pi$$共役系炭素のモデル物質であるグラファイトにP及びNドーピングを行い、チオフェンの吸着特性に対するドーピング効果を調べた。PCl$$_{3}$$もしくはN$$_{2}$$のイオン化により形成されるフラグメントイオンを3keVに加速し、グラファイトへ照射を行った。照射後試料を800$$^{circ}$$Cでアニールし、室温冷却後1$$times$$10$$^{-2}$$Paのチオフェンガスに1時間曝露した。比較のため、Ar$$^{+}$$イオン照射を行ったグラファイトについても比較を行った。放射光XPSによる測定の結果、Ar$$^{+}$$照射、及びNドーピングした試料ではチオフェンの吸着特性がほとんど変化しなかったが、Pドーピングを行った試料ではそれらの試料よりも10倍以上吸着能が向上することを初めて見いだした。

no abstracts in English

使用言語

 :

Japanese

掲載資料名

 :

巻

 :

号

 :

ページ数

 :

発行年月

 :

発表会議名

 :

第26回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム

開催年月

 :

2013/01

開催都市

 :

名古屋

開催国

 :

日本

キーワード

 :

no keyword

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

研究データの公開先DOI

 :

使用施設

 :

広報プレスリリース

 :

論文解説記事
(成果普及情報誌)

 :

受委託・共同研究相手機関

 :

Access

 :

- Accesses

InCites™

 :

Altmetrics

 :

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.

前の画面に戻る