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Study of ripple loss of fast ions with ferritic insertion on JFT-2M

JFT-2Mでのフェライト鋼装着における高速イオンのリップル損失に関する研究

川島 寿人; 都筑 和泰; 伊世井 宣明; 佐藤 正泰; 篠原 孝司; 木村 晴行

Kawashima, Hisato; Tsuzuki, Kazuhiro; Isei, Nobuaki; Sato, Masayasu; Shinohara, Koji; Kimura, Haruyuki

JFT-2Mではフェライト鋼板(FB)によるトロイダル磁場リップル及び電流方向(w)接線中性粒子入射(NBI)で生成された高速イオンのリップル捕捉(RT)損失の低減を実証した。今回は高速イオン損失にかかわるNBIの入射角の違いと損失低減効果の関係を調べるため逆電流方向接線NBI及び垂直NBIを用いリップル損失を測定した。垂直NBIでは$$delta$$(肩部の基本モード平均リップル率)が0.6%でRT損失割合が接線NBIの場合の約8倍になったが、0.07%にすると零になり損失低減効果がビーム入射角に依らないことが確かめられた。次に磁場リップルのトロイダル非一様性にかかわる高速イオン損失を第一壁温度上昇($$Delta$$T)のトロイダル分布から評価した。CO-NBI時に$$delta$$を0.07%(最小: -0.56%,最大: 0.84%)から0.71%(最小: 0.15%,最大: 1.1%)にした場合、局所的なリップル率の変動に比べて$$Delta$$Tの変動は小さく全体が平均値に沿って上昇し、局所的リップル率の依存性が小さいことを示した。

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