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A Laser ion source with a thin ohmic-heating ionizer for the TIARA-ISOL

薄い抵抗加熱型イオン化室を用いたTIARA-ISOL用レーザーイオン源

小泉 光生 ; 長 明彦 ; 大島 真澄; 関根 俊明; 涌井 崇志*; Jin, W.*; 桂川 秀嗣*; 宮武 宇也*; 石田 佳久*

Koizumi, Mitsuo; Osa, Akihiko; Oshima, Masumi; Sekine, Toshiaki; Wakui, Takashi*; Jin, W.*; Katsuragawa, H.*; Miyatake, Hiroari*; Ishida, Yoshihisa*

原研高崎オンライン同位体分離器(TIARA-ISOL)用に抵抗加熱型レーザーイオン源を製作した。本イオン源では、30$$mu$$mの金属膜でできたイオン化室を用いた。その結果、イオン化室に抵抗加熱で生成される電場勾配を4-5V/cmまで増やすことができた。オフライン実験において、イオン源から引き出される$$^{27}$$Al(安定核)パルスイオンビームの時間広がりを調べた結果、半値幅が4$$mu$$mまで狭くなったことを確認した。オンライン実験において、$$^{25}$$Al(半減期7.2秒)を$$^{16}$$O($$^{12}$$C, p 2n)反応で生成し、イオン化効率を調べた結果、約0.1%を得た。

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