Heat stability of Mo/Si multilayers inserted with silicon oxide layers

シリコン酸化物層を挿入したMo/Si多層膜の耐熱性

Ishino, Masahiko; Yoda, Osamu; Sano, Kazuo*; Koike, Masato

Mo/Si多層膜の耐熱性向上を目的に、多層膜界面に厚さ2.0nmのSiO $_{2}$ を挿入した試料を成膜した。多層膜試料の耐熱性を評価するため、600 $^{circ}C$ までの熱処理を行った。その結果、Mo-on-Si表面にSiO $_{2}$ 層を挿入したMo/Si/SiO $_{2}$ 多層膜が400 $^{circ}C$ における熱処理後も高い軟X線反射率を維持することがわかった。各界面にSiO $_{2}$ 層を挿入したMo/SiO $_{2}$ /Si/SiO $_{2}$ 多層膜は、高い耐熱性を有するが、酸素による吸収が大きいため、高い軟X線反射率が期待できない。SiO $_{2}$ 層による軟X線反射率の低下を抑えるために、Mo/Si多層膜界面に挿入するSiO $_{2}$ 層の厚さの最適化を試みた結果、Si-on-Mo界面に0.5nm,Mo-on-Si界面に1.5nmのSiO $_{2}$ 層を挿入したMo/SiO $_{2}$ /Si/SiO $_{2}$ 多層膜が高い耐熱性と高い軟X線反射率を持つことを見いだした。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	X-Ray Mirrors, Crystals, and Multilayers II (Proceedings of SPIE Vol.4782)
巻	:
号	:
ページ数	:	p.277 - 284
発行年月	:	2002/12
発表会議名	:	SPIE's 47th Annual Meeting; The International Symposium on Optical Science and Technology
開催年月	:	2001/07
開催都市	:	San Diego
開催国	:	U. S. A.
キーワード	:	Mo/Si多層膜; 耐熱性; 酸化物層

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登録番号 : B20020338
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 558

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