Fukuda, Mitsuhiro; Okumura, Susumu; Arakawa, Kazuo
大面積均一照射のための新たな円状ビームスキャニング法を開発した。ビームは、標的上で渦巻き状の軌道を描き、連続的な円状照射が可能となる。ビームの走査速度と半径方向の軌道間隔は、粒子密度分布を均一にするため一定に保たれている。ビームスポットの半径方向の位置と走査角振動数は、時間に関して無理関数で表される。二次元的な粒子密度分布を調べるため、シミュレーションプログラムを開発した。半径方向の軌道間隔がビーム径よりも十分に小さい場合には、粒子密度分布の均一性は、最小軌道半径とビーム径の比に完全に依存する。その比が0.3以下の場合に粒子密度分布の均一性は
10%以下に抑えることが可能である。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
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巻 |
: | 396 |
号 |
: | 1-2 |
ページ数 |
: | p.45 - 49 |
発行年月 |
: | 1997/00 |
キーワード |
: | 均一照射; ビームスキャニング; 粒子密度分布; 走査角振動数; スパイラルスキャニング; 均一度; シミュレーション; 走査速度 |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：56.73 分野：Instruments & Instrumentation |
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