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Estimation of permeation probability in plasma driven permeation

プラズマ誘起水素透過における透過確率の評価

滝沢 真之; 木内 清; 石塚 秀俊*; 岡本 眞實*; 藤井 靖彦*

not registered; Kiuchi, Kiyoshi; not registered; not registered; not registered

同様な表面状態に前処理された厚さ20$$mu$$m,50$$mu$$m,及び200$$mu$$mのニッケル薄膜を使用して、水素透過実験を実施した。ECR加熱により水素プラズマを生成し、523Kに保ったニッケル薄膜に対するプラズマ誘起透過現象(PDP)を調べた。上流側および下流側表面の再結合係数については、ガス圧による透過(GDP)実験データにより評価した。下流測表面再結合係数が最大となる条件における上流側及び下流側表面結合係数はそれぞれ3.4$$times$$10$$^{-29}$$m$$^{4}$$/sec,2.9$$times$$10$$^{-29}$$m$$^{4}$$/secであった。上流側表面再結合係数をパラメータとして変化させることで透過量及び透過確率を評価した。1.33Paの低エネルギー(~eV)トリチウムプラズマにおいて、上流側表面再結合係数を2桁低下させるように前処理した523K,10$$mu$$mのニッケル薄膜では、入射流量に対する透過流量の比を示す透過確率が約20%となるトリチウム透過(約2Ci/m$$^{2}$$secに相当)が期待される。

no abstracts in English

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パーセンタイル:0.01

分野:Nuclear Science & Technology

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