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Desorption of fragment ions from mono-and multilayered CCl$$_{4}$$ on Cu(100) by inner-shell photoexcitation

内殻光励起によるCu(100)表面に単層及び多層吸着したCCl$$_{4}$$からのフラグメントイオンの脱離

馬場 祐治  ; 吉井 賢資  ; 佐々木 貞吉

Baba, Yuji; Yoshii, Kenji; Sasaki, Teikichi

Cu(100)表面に単層及び多層吸着したCCl$$_{4}$$分子に、Cl1s領域の放射光軟X線を照射した時の脱離フラグメントイオンを測定した。単層吸着では、脱離イオン種はCl$$^{+}$$のみであり、これはCl1s$$rightarrow$$$$alpha$$$$^{ast}$$共鳴励起後のスペクテータオージェ遷移に伴う速いC-Cl結合解裂に起因する。一方、多層吸着の場合は、分子イオン(CCl$$_{3+}$$)の脱離も起こり、その脱離強度はX線の吸収量に比例する。このことから、脱離速度が遅い重い分子種の脱離は、オージェ遷移後の二次電子の効果により起こることを明らかにした。

no abstracts in English

使用言語

 :

English

掲載資料名

 :

Surface Science

巻

 :

402-404

号

 :

ページ数

 :

p.115 - 119

発行年月

 :

1998/00

発表会議名

 :

17th European Conference on Surface Science (ECOSS-17)

開催年月

 :

1997/09

開催都市

 :

Netherlands

開催国

 :

キーワード

 :

Photon-stimulated Desorption; CCl$$_{4}$$; Cu(100); Inner-shell; Excitation; Auger Transition; Synchrotron Radiation

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

https://doi.org/10.1016/S0039-6028(97)00936-9

研究データの公開先DOI

 :

使用施設

 :

広報プレスリリース

 :

論文解説記事
(成果普及情報誌)

 :

受委託・共同研究相手機関

 :

Access

 :

- Accesses

InCites™

 :

パーセンタイル：27.59

分野：Chemistry, Physical

Altmetrics

 :

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