RBS/channeling analysis of damage and annealing processes of Nb-implanted TiO $_{2}$

ニオブイオン注入処理を行った二酸化チタンの損傷とその焼鈍過程のラザフォード後方散乱/チャンネリング解析

Aoki, Yasushi; Yamamoto, Shunya; Takeshita, Hidefumi; Naramoto, Hiroshi

二酸化チタンにニオブをドープすることにより、二酸化チタンの電気特性(半導体特性)を制御することが可能であると考えられている。本研究ではニオブのドープ法としてイオン注入法を用い、室温・低温注入を施した後、大気中で焼鈍を行った。ニオブ注入中及び焼鈍過程における二酸化チタン表面注入層の微視的構造をRBS/チャンネリング法を用いて解析し、注入後ある程度結晶性を維持している場合は1段階の焼鈍過程(500 $^{circ}$ C)で結晶が回復し、アモルファス状態からの回復では3段階の焼鈍過程が存在することを明らかにした。結晶が回復した後の状態ではニオブ原子は、Ti格子位置に置換し、二酸化チタン表面層に均一に分布することが分かった。さらに置換したニオブは二酸化チタン中でNbO $_{2}$ -TiO $_{2}$ 型の固溶体を形成していることを明らかにした。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B
巻	:	136-138
号	:
ページ数	:	p.400 - 403
発行年月	:	1998/00
発表会議名	:	13th International Conference on Ion Beam Analysis (IBA-13)
開催年月	:	1997/07
開催都市	:	Portugal
開催国	:
キーワード	:	二酸化チタン; イオン注入; RBS-チャンネリング; ニオブ; 焼鈍; TiO $_{2}$ ; Ion Implantation; RBS-channeling; Nb; Annealig

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1016/S0168-583X(97)00859-8
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：53.8 分野：Instruments & Instrumentation
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登録番号 : B19970853
抄録集掲載番号 : 260794
論文投稿番号 : 15764

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