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Analysis of the current imbalance in a Large CICC consisting of chrome plated strands

クロムメッキ素線からなる大型CICC内の偏流の解析

小泉 徳潔; 高橋 良和; 加藤 崇; 辻 博史; 小野 通隆*; 浜嶋 高太郎*; 高安 誠*

Koizumi, Norikiyo; Takahashi, Yoshikazu; Kato, Takashi; Tsuji, Hiroshi; not registered; not registered; not registered

励磁速度依存不安定を示したUS-DPCの導体内電流分布の解析を行った。本解析では、素線間の接触抵抗が重要なパラメータとなる。そこで、短寸US-DPC導体を用いて素線間接触抵抗の測定を行った。本測定結果を用いて、偏流解析を行った結果、偏流の大きさが励磁速度に依存することがわかった。これにより、励磁速度依存不安定性が導体内の電流分布の不均一に起因するものと考えられる。

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